N° de brevet
Brevet
EP1882055
APPAREIL ET PROCEDES DE SUPPRESSION OU DE DEPOT DE FLUIDES SUPERCRITIQUES
EP1879704
FORMULATIONS POUR LE NETTOYAGE DE COUCHES DE PHOTORESINE IMPLANTEES D'IONS A PARTIR DE DISPOSITIFS MICROELECTRONIQUES
WO2007111694
COMPOSITION ET PROCÉDÉ DE RECYCLAGE DE PLAQUETTES SEMICONDUCTRICES SUR LESQUELLES SE TROUVENT DES MATIÈRES DIÉLECTRIQUES À FAIBLE CONSTANTE DIÉLECTRIQUE
WO2006138505
COMPOSITIONS DE FLUIDE DENSE POUR L'ELIMINATION DE PHOTORESINE DURCIE, DE RESIDU POST–GRAVURE ET/OU DE COUCHES DE REVETEMENT ANTIREFLET DE FOND
EP1735425
AMELIORATION DE L'ELIMINATION DE MATERIAU PARTICULAIRE CONTENANT DU SILICIUM AU MOYEN DE COMPOSITIONS A BASE DE FLUIDE SUPERCRITIQUE
EP1733001
COMPOSITION PERMETTANT D'ENLEVER DES TRAITEMENTS ANTI–REFLETS DE FOND DE PLAQUETTES DE PHOTORESINE A IMPLANTATION IONIQUE A MOTIFS
EP1730600
COMPOSITION ET PROCEDE D'ELIMINATION DE LA PHOTORESINE ET/OU DE LA MATIERE ANTI–REFLECHISSANTE SACRIFICIELLE DEPOSEE(S) SUR UN SUBSTRAT
WO2006113621
FORMULATIONS POUR LE NETTOYAGE DE COUCHES DE PHOTORESINE IMPLANTEES D'IONS A PARTIR DE DISPOSITIFS MICROELECTRONIQUES
EP1689825
ENLEVEMENT DE COUCHES SACRIFICIELLES SUR LES SYSTEMES MICRO–ELECTROMECANIQUES AU MOYEN D'UN FLUIDE SUPERCRITIQUE OU DE FORMULATIONS CHIMIQUES
EP1636828
COMPOSITIONS ET METHODES DESTINEES AU NETTOYAGE/POLISSAGE A HAUT RENDEMENT DE PLAQUETTES SEMI–CONDUCTRICES
WO2005085957
COMPOSITION ET PROCEDE D'ELIMINATION DE LA PHOTORESINE ET/OU DE LA MATIERE ANTI–REFLECHISSANTE SACRIFICIELLE DEPOSEE(S) SUR UN SUBSTRAT
EP1572833
FORMULATION CHIMIQUE DE DIOXYDE DE CARBONE SUPERCRITIQUE POUR ELIMINATION DE RESIDUS D'ALUMINIUM BRULES OU NON BRULES APRES GRAVURE
WO2005054405
ENLEVEMENT DE COUCHES SACRIFICIELLES SUR LES SYSTEMES MICRO–ELECTROMECANIQUES AU MOYEN D'UN FLUIDE SUPERCRITIQUE OU DE FORMULATIONS CHIMIQUES
WO2005004199
COMPOSITIONS ET METHODES DESTINEES AU NETTOYAGE/POLISSAGE A HAUT RENDEMENT DE PLAQUETTES SEMI–CONDUCTRICES
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