N° de brevet
Brevet
WO2008027215
APPAREIL ET PROCÉDÉ POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE ET LE DÉPÔT INTÉGRÉS POUR UNE INTERCONNEXION DE CUIVRE
WO2007079373
PROCEDE ET APPAREIL DE NETTOYAGE D'UN SUBSTRAT SEMICONDUCTEUR
WO2007078975
PROCÉDÉ ET SYSTÈME D'UTILISATION D'UN COMPOSÉ DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT EN DEUX PHASES
WO2007079036
PROCEDE ET APPAREIL DE NETTOYAGE D'UN SUBSTRAT SEMICONDUCTEUR
WO2007078956
PROCEDE ET APPAREIL D'ELIMINATION DE PARTICULES
WO2007078955
PREPARATION D'UN SUBSTRAT AU MOYEN DE SOLUTIONS DE FLUIDE STABILISEES, PROCEDES DE STABILISATION DE SOLUTIONS DE FLUIDE
WO2007078642
PROCEDE ET APPAREIL PERMETTANT DE DECONTAMINER UN SUBSTRAT
EP1803804
Procédé et matériel de nettoyage d'un substrat
EP1803503
Appareil et système de nettoyage d'un substrat
EP1782461
SYSTEME ET PROCEDE DE NETTOYAGE ET DE GRAVURE D'UN SUBSTRAT
EP1729624
SEQUENCE DE NETTOYAGE AU MOYEN D'UNE BROSSE ET SEQUENCE DE LAVAGE–SECHAGE PROXIMAL D'UN SUBSTRAT METTANT EN OEUVRE DES CHIMIES COMPATIBLES ET SEQUENCE DE PREPARATION DE SUBSTRAT PROXIMALE, PROCEDES, APPAREILS ET SYSTEMES PERMETTANT DE METTRE EN OEUVRE CELLES–CI
EP1704584
PROCEDE ET APPAREIL POUR LE NETTOYAGE DE TRANCHES EN SEMICONDUCTEUR AU MOYEN DE MOUSSES, BULLES ET/OU LIQUIDES COMPRIMES ET/OU PRESSURISES
WO2006012174
SYSTEME ET PROCEDE DE NETTOYAGE ET DE GRAVURE D'UN SUBSTRAT
EP1583138
Un procédé et un appareil pour traiter des surfaces de wafers
EP1583136
Conrôle de l'ambiance pendant le séchage de plaquettes
WO2005064647
PROCEDE ET APPAREIL POUR LE NETTOYAGE DE TRANCHES EN SEMICONDUCTEUR AU MOYEN DE MOUSSES, BULLES ET/OU LIQUIDES COMPRIMES ET/OU PRESSURISES
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