| N° de brevet |
Brevet |
| EP1894230 |
COMPOSITIONS ET PROCEDES D'ELIMINATION SELECTIVE DE METAUX OU D'ALLIAGES METALLIQUES APRES LA FORMATION D'UN SILICIURE METALLIQUE |
| EP1882055 |
APPAREIL ET PROCEDES DE SUPPRESSION OU DE DEPOT DE FLUIDES SUPERCRITIQUES |
| EP1879704 |
FORMULATIONS POUR LE NETTOYAGE DE COUCHES DE PHOTORESINE IMPLANTEES D'IONS A PARTIR DE DISPOSITIFS MICROELECTRONIQUES |
| WO2007147020 |
PRÉCURSEURS AU COBALT UTILES POUR FORMER DES FILMS CONTENANT DU COBALT SUR DES SUBSTRATS |
| EP1844367 |
COMPOSITION PERMETTANT D'ENLEVER LE PHOTORESIST APRES L'ATTAQUE CHIMIQUE ET REVETEMENTS ANTIREFLETS INFERIEURS |
| EP1765526 |
COMPOSITIONS ET PROCÉDÉS POUR SÉCHER DES TRANCHES IMPRIMÉES PAR SÉCHAGE DURANT LA FABRICATION DE CIRCUITS IMPRIMÉS |
| WO2006138505 |
COMPOSITIONS DE FLUIDE DENSE POUR L'ELIMINATION DE PHOTORESINE DURCIE, DE RESIDU POST–GRAVURE ET/OU DE COUCHES DE REVETEMENT ANTIREFLET DE FOND |
| EP1735425 |
AMELIORATION DE L'ELIMINATION DE MATERIAU PARTICULAIRE CONTENANT DU SILICIUM AU MOYEN DE COMPOSITIONS A BASE DE FLUIDE SUPERCRITIQUE |
| EP1733001 |
COMPOSITION PERMETTANT D'ENLEVER DES TRAITEMENTS ANTI–REFLETS DE FOND DE PLAQUETTES DE PHOTORESINE A IMPLANTATION IONIQUE A MOTIFS |
| EP1730600 |
COMPOSITION ET PROCEDE D'ELIMINATION DE LA PHOTORESINE ET/OU DE LA MATIERE ANTI–REFLECHISSANTE SACRIFICIELLE DEPOSEE(S) SUR UN SUBSTRAT |
| WO2006116428 |
APPAREIL ET PROCEDE POUR STOCKER ET DISTRIBUER DES REACTIFS ET DES COMPOSITIONS CHIMIQUES |
| WO2006113621 |
FORMULATIONS POUR LE NETTOYAGE DE COUCHES DE PHOTORESINE IMPLANTEES D'IONS A PARTIR DE DISPOSITIFS MICROELECTRONIQUES |
| EP1689825 |
ENLEVEMENT DE COUCHES SACRIFICIELLES SUR LES SYSTEMES MICRO–ELECTROMECANIQUES AU MOYEN D'UN FLUIDE SUPERCRITIQUE OU DE FORMULATIONS CHIMIQUES |
| EP1636828 |
COMPOSITIONS ET METHODES DESTINEES AU NETTOYAGE/POLISSAGE A HAUT RENDEMENT DE PLAQUETTES SEMI–CONDUCTRICES |
| EP1627429 |
COMPOSITIONS ET PROCEDES DE NETTOYAGE A BASE DE FLUIDES SUPERCRITIQUES |
| WO2006009590 |
COMPOSES DE CUIVRE (I) DESTINES A ETRE UTILISES COMME PRECURSEURS DE DEPOT DE COUCHES MINCES DE CUIVRE |
| WO2006007077 |
COMPOSITION ET PROCEDE DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR A BASSE TEMPERATURE DE FILMS CONTENANT DU SILICIUM COMPRENANT DES FILMS DE CARBONITRURE DE SILICIUM ET D'OXYCARBONITRURE DE SILICIUM |
| EP1599488 |
PRECURSEURS UTILISES DANS LE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR DE MATERIAUX A BASE DE TANTALE |
| EP1583997 |
ELIMINATION DE PHOTORESINE |
| WO2005085957 |
COMPOSITION ET PROCEDE D'ELIMINATION DE LA PHOTORESINE ET/OU DE LA MATIERE ANTI–REFLECHISSANTE SACRIFICIELLE DEPOSEE(S) SUR UN SUBSTRAT |
| EP1572833 |
FORMULATION CHIMIQUE DE DIOXYDE DE CARBONE SUPERCRITIQUE POUR ELIMINATION DE RESIDUS D'ALUMINIUM BRULES OU NON BRULES APRES GRAVURE |
| WO2005081933 |
PROCEDE DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR DE CONDUCTIVITE ELEVEE, FILMS MINCES ADHERENTS DE RUTHENIUM |
| EP1567531 |
COMPOSITION ET PROCEDE DE DEPOT A BASSE TEMPERATURE DE COUCHES CONTENANT DU SILICIUM, TELLES QUE DES COUCHES COMPRENANT DU SILICIUM, DU NITRURE DE SILICIUM, DU DIOXYDE DE SILICIUM ET/OU DE L'OXYNITRURE DE SILICIUM |
| EP1551936 |
COMPOSITION ET PROCEDE POUR L'ELIMINATION PAR DECAPAGE PAR VOIE HUMIDE DE MATERIAUX ANTI–REFLECHISSANTS SACRIFICIELS |
| WO2005054405 |
ENLEVEMENT DE COUCHES SACRIFICIELLES SUR LES SYSTEMES MICRO–ELECTROMECANIQUES AU MOYEN D'UN FLUIDE SUPERCRITIQUE OU DE FORMULATIONS CHIMIQUES |
| WO2005010230 |
SYSTEMES DE DELIVRANCE POUR LA VAPORISATION EFFICACE DE MATERIAU SOURCE PRECURSEUR |
| WO2005004199 |
COMPOSITIONS ET METHODES DESTINEES AU NETTOYAGE/POLISSAGE A HAUT RENDEMENT DE PLAQUETTES SEMI–CONDUCTRICES |
| EP1488286 |
COMPOSITIONS TAMPONS POUR PH PERMETTANT DE NETTOYER DES SUBSTRATS A SEMI–CONDUCTEURS |
| WO2004065650 |
PRECURSEURS UTILISES DANS LE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR DE MATERIAUX A BASE DE TANTALE |
| EP1392462 |
COMPOSITION DE REACTIF DE SOURCE DESTINEE A LA FORMATION PAR CVD DE FILMS MINCES D'OXYDE METALLIQUE A CONSTANTE DIELECTRIQUE ET DIELECTRIQUE ELEVEE DE GRILLE DOPEE ZR/HF ET PROCEDE D'UTILISATION CORRESPONDANT |
| EP1384059 |
MOSAIQUES DE CAPTEURS A COUCHE MINCE MICRO–USINES POUR LA DETECTION DE GAZ CONTENANT H2, NH3 ET DU SOUFRE, ET LEUR PROCEDE DE FABRICATION |
| EP1373278 |
PRECURSEURS DE METALLOAMIDE ET AMINOSILANE UTILISES DANS LA FORMATION PAR PROCEDE CVD DE FILMS MINCES DE DIELECTRIQUE |
| WO03018714 |
FORMULATION EXEMPTE DE MATIERES ABRASIVES ET DESTINEES AU POLISSAGE CHIMIQUE ET MECANIQUE DU CUIVRE ET DES MATERIAUX ASSOCIES ET PROCEDE D'UTILISATION CORRESPONDANT |
| WO0183638 |
BOUES DE POLISSAGE POUR CUIVRE ET METAUX ASSOCIES |
| EP1144716 |
DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR A BASSE TEMPERATURE POUR LA PREPARATION DE FILMS FERROELECTRIQUES AVEC UTILISATION D'ALCOXYDES DE BISMUTH |
| WO0174824 |
PROCEDE CHIMIQUE D'ELIMINATION ET D'ANALYSE D'IMPURETES DE BORE DANS DU TETRAETHYLORTHOSILICATE (TEOS) |
| WO0168948 |
COMPLEXES DE PYRAZOLATE DE CUIVRE ET DEPOT CHIMIQUE METALORGANIQUE EN PHASE VAPEUR DU CUIVRE FAISANT INTERVENIR LESDITS COMPLEXES |
| EP1086489 |
FABRICATION D'ELECTRODES HYBRIDES POUR STRUCTURES DE DISPOSITIFS FERROELECTRIQUES PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR |
| EP1056594 |
MATERIAUX ET COUCHES A BASE DE PBZRTIO3 MODIFIE AU NIVEAU DU SITE A ET/OU DU SITE B |
| EP1054934 |
COMPOSITIONS DE SOLVANT ALCANE/POLYAMINE POUR PROCEDE DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR AVEC APPORT DE LIQUIDE |
| EP1042529 |
PROCEDE DE DEPOT SELECTIF DE COUCHES MINCES FERROELECTRIQUES A BASE DE BISMUTH |
| EP1042528 |
PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES FERROELECTRIQUES MINCES |
| EP1040518 |
POLISSAGE CHIMIQUE MECANIQUE DE CONDENSATEURS FERAM |
| EP1030855 |
COMPOSES ET COMPOSITIONS A BASE D'AMIDE DE BISMUTH ET PROCEDE DE FORMATION DE FILMS CONTENANT DU BISMUTH A PARTIR DE TELS COMPOSES ET COMPOSITIONS |
| EP1029106 |
PROCEDE DE FABRICATION, SUR DES SUBSTRATS, DE MATERIAUX ET STRUCTURES A BASE D'IRIDIUM, ET REACTIFS A SOURCE D'IRIDIUM SERVANT DANS CE PROCEDE |
| EP0990059 |
PROCEDE DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR BASSE TEMPERATURE SERVANT A FORMER DE MINCES FILMS DE CERAMIQUE CONTENANT DU BISMUTH UTILES DANS DES DISPOSITIFS A MEMOIRES FERROELECTRIQUES |
| EP0963458 |
PROCEDES RELATIFS AU O.C.P.V A BASSE TEMPERATURE FAISANT INTERVENIR DES BI–CARBOXYLATES |
| EP0920435 |
MEMOIRE RAM ET PROCEDE DE DEPOT CHIMIQUE DE PLATINE EN PHASE VAPEUR UTILISE DANS SA PREPARATION |
| WO9927581 |
POLISSAGE CHIMIQUE MECANIQUE DE CONDENSATEURS FERAM |
| WO9117167 |
SYNTHESE DE BETA–DICETONATES AURIQUES DIALKYLE (III) |
