N° de brevet
Brevet
EP1883863
COMPOSITIONS POUR LA SUPPRESSION DE SUBSTANCES POST–GRAVURE, DE RESIDUS DE PHOTORESIST EN CENDRES ET DE MASSE DE PHOTORESIST
EP1877870
DECAPANT PHOTORESISTANT NON AQUEUX EMPECHANT LA CORROSION GALVANIQUE
EP1875493
COMPOSITION PERMETTANT D'ELIMINER UNE PHOTORESINE A IMPLANTATION IONIQUE DANS DES APPLICATIONS FEOL
EP1840659
Composition pour substrats de nettoyage microélectroniques contenant des acides oxygène halogène et leurs dérivés
EP1836535
COMPOSITIONS DE NETTOYAGE MICROELECTRONIQUE NON AQUEUSES ET NON CORROSIVES
EP1828848
COMPOSITIONS NON AQUEUSES ET NON CORROSIVES DE NETTOYAGE EN MICROELECTRONIQUE CONTENANT DES INHIBITEURS DE CORROSION POLYMERES
EP1789527
COMPOSITIONS DE NETTOYAGE POUR SUBSTRATS MICROÉLECTRONIQUES
EP1787168
SOLUTIONS NETTOYANTES NON AQUEUSES ET CONTENANT DU FRUCTOSE POUR DES APPLICATIONS EN MICROÉLECTRONIQUE
WO2007015724
SEL TROMETHAMINE D'ACIDE VALPROIQUE
WO2006121580
COMPOSITIONS POUR LA SUPPRESSION DE SUBSTANCES POST–GRAVURE, DE RESIDUS DE PHOTORESIST EN CENDRES ET DE MASSE DE PHOTORESIST
EP1720966
COMPOSITIONS DE NETTOYAGE NANOELECTRONIQUE ET MICROELECTRONIQUE
WO2006112994
DECAPANT PHOTORESISTANT NON AQUEUX EMPECHANT LA CORROSION GALVANIQUE
WO2006107517
COMPOSITION PERMETTANT D'ELIMINER UNE PHOTORESINE A IMPLANTATION IONIQUE DANS DES APPLICATIONS FEOL
EP1692572
DECAPANTS ALCALINS DE RESTES DE GRAVURE ET DE CENDRE ISSUS DU TRAITEMENT AU PLASMA ET COMPOSITIONS DE DECAPAGE DE RESINE PHOTOSENSIBLE CONTENANT DES INHIBITEURS DE CORROSION SOUS FORME D'HALOGENURE METALLIQUE
WO2006065256
COMPOSITIONS NON AQUEUSES ET NON CORROSIVES DE NETTOYAGE EN MICROELECTRONIQUE CONTENANT DES INHIBITEURS DE CORROSION POLYMERES
WO2006062534
COMPOSITIONS DE NETTOYAGE MICROELECTRONIQUE NON AQUEUSES ET NON CORROSIVES
EP1664935
COMPOSITIONS DE DECAPAGE ET DE NETTOYAGE POUR LA MICRO–ELECTRONIQUE
WO2006023061
COMPOSITIONS DE NETTOYAGE POUR SUBSTRATS MICROÉLECTRONIQUES
WO2005093032
COMPOSITIONS DE NETTOYAGE NANOELECTRONIQUE ET MICROELECTRONIQUE
EP1564595
Composition pour le nettoyage de supports microélectroniques contenant des acides halogène–oxygène et leurs dérivés
WO2005043245
DECAPANTS ALCALINS DE RESTES DE GRAVURE ET DE CENDRE ISSUS DU TRAITEMENT AU PLASMA ET COMPOSITIONS DE DECAPAGE DE RESINE PHOTOSENSIBLE CONTENANT DES INHIBITEURS DE CORROSION SOUS FORME D'HALOGENURE METALLIQUE
EP1520211
COMPOSITIONS DE NETTOYAGE MICRO–ELECTRONIQUE CONTENANT DES OXYDANTS ET DES SOLVANTS ORGANIQUES
EP1519234
Compositions de nettoyage et de décapage pour la micro–électronique
EP1512050
COMPOSITIONS D'ELIMINATION DE LA COUCHE ANTIREFLET ET DE NETTOYAGE MICRO–ELECTRONIQUE
WO2005019939
COMPOSITIONS DE DECAPAGE ET DE NETTOYAGE POUR LA MICRO–ELECTRONIQUE
EP1404795
COMPOSITIONS CONTENANT DES SELS DE FLUORURE SANS AMMONIAC DESTINEES AU NETTOYAGE DE COMPOSANTS MICROELECTRONIQUES
EP1404797
COMPOSITIONS DE NETTOYAGE ALCALINES SANS AMMONIAC PRESENTANT UNE MEILLEURE COMPATIBILITE AVEC LE SUBSTRAT DESTINEES A DES ELEMENTS MICRO–ELECTRONIQUES
EP1404796
COMPOSITIONS DE NETTOYAGE DE MICRO–ELEMENTS ELECTRONIQUES ALCALINES SANS AMMONIAC A COMPATIBILITE AVEC LES SUBSTRATS AMELIOREE
WO03104901
COMPOSITIONS D'ELIMINATION DE LA COUCHE ANTIREFLET ET DE NETTOYAGE MICRO–ELECTRONIQUE
EP1326951
COMPOSITIONS ALCALINES STABILISEES DE NETTOYAGE DE SUBSTRATS MICRO–ELECTRONIQUES
EP1313781
MILIEUX POLYMERES FONCTIONNALISES POUR LA SEPARATION D'ANALYSATS
EP1307786
PROCEDE ET COMPOSITION PERMETTANT DE RETIRER UN MATERIAU CONTENANT DU SODIUM D'UN SUBSTRAT DE MICROCIRCUIT
WO03006598
COMPOSITIONS DE NETTOYAGE ALCALINES SANS AMMONIAC PRESENTANT UNE MEILLEURE COMPATIBILITE AVEC LE SUBSTRAT DESTINEES A DES ELEMENTS MICRO–ELECTRONIQUES
WO03006599
COMPOSITIONS CONTENANT DES SELS DE FLUORURE SANS AMMONIAC DESTINEES AU NETTOYAGE DE COMPOSANTS MICROELECTRONIQUES
WO03006597
COMPOSITIONS DE NETTOYAGE DE MICRO–ELEMENTS ELECTRONIQUES ALCALINES SANS AMMONIAC A COMPATIBILITE AVEC LES SUBSTRATS AMELIOREE
WO0233033
COMPOSITIONS ALCALINES STABILISEES DE NETTOYAGE DE SUBSTRATS MICRO–ELECTRONIQUES
EP0886547
NETTOYAGE DE SUBSTRATS DE PLAQUETTES PERMETTANT D'EN ELIMINER LES CONTAMINANTS METALLIQUES TOUT EN CONSERVANT LEUR CARACTERE LISSE
WO9816330
NETTOYAGE DE SUBSTRATS DE PLAQUETTES PERMETTANT D'EN ELIMINER LES CONTAMINANTS METALLIQUES TOUT EN CONSERVANT LEUR CARACTERE LISSE
EP0730143
Procédé amélioré de microextraction en phase solide des traces organiques
Copyright © 2008 Patfr.com Tous droits réservés.
Contact