N° de brevet
Brevet
EP0840170
Esters particuliers d'acide o–quinonediazidesulfonique de composés phénoliques
EP0742493
Composition dépouillement de photoréserves contenant de l'acide benzothiazolylsuccinique
EP0742495
Composition dépouillement de photoréserves contenant des agents chélatant
EP0742494
Composition dépouillement de photoréserves contenant une résine novolaque
EP0738744
Polymères réticulés
EP0737897
Photoréserve résistant à la gravure, dévelopable par voie liquide pour exposition UV au–dessous de 200 nm
EP0727711
Compositions pour photoréserves contenant des liants à base de résine, distillés avec un liquide supercritique
EP0718316
Polymères réticulés
EP0718317
Compositions photoréserves
EP0718315
Procédé de préparation de résines phénoliques partiellement protégées
EP0712658
Assemblage pour la distribution non polluante de liquides chimiques ultra–pure
EP0701169
Compositions sensibles aux rayonnements contenant des polymères de novolaque entièrement substitués
EP0697632
Composition photosensible à amplification chimique
EP0685766
Dérivés oligomères trinucléaires sélectionnés de novolaque
EP0678788
Composition non corrosive pour décaper des films photoresist.
EP0623633
Liants à base de résines novolaques contenant une proportion importante de liaison en ortho et leur utilisation dans des compositions sensibles aux rayonnements.
EP0619034
RESINES DE NOVOLAQUE CHOISIES ET COMPOSITIONS SENSIBLES AUX RAYONNEMENTS CHOISIES.
EP0561625
Composés polylactides renforçateurs de la sensibilité des mélanges sensibles aux radiations.
WO9313459
RESINES DE NOVOLAQUE CHOISIES ET COMPOSITIONS SENSIBLES AUX RAYONNEMENTS CHOISIES
EP0451170
OLIGOMERES TRINUCLEAIRES SELECTIONNES DE NOVOLAQUE ET LEUR EMPLOI DANS DES COMPOSES PHOTOACTIFS AINSI QUE DANS DES MELANGES SENSIBLES AU RAYONNEMENT.
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