| N° de brevet |
Brevet |
| FR2902927 |
DISPOSITIF ELECTRONIQUE TRIDIMENSIONNEL. |
| EP1855313 |
PROCEDE POUR FABRIQUER UN FILM POREUX MODIFIE DE SILICE, FILM POREUX MODIFIE DE SILICE OBTENU PAR CE PROCEDE ET DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR UTILISANT LE FILM POREUX MODIFIE DE SILICE |
| EP1832351 |
Matériaux diélectriques faibles et leur procédé de fabrication |
| EP1808297 |
Dispositif à semi–conducteur, réservoir d'encre doté d'un tel dispositif à semi–conducteur, cartouche de jet d'encre, appareil d'enregistrement à jet d'encre, procédé pour la fabrication d'un tel dispositif à semi–conducteur et système de communication, procédé pour contrôler la pression, mémoire pour contrôler la pression, élément de mémoire, système de sécurité d'appareil d'enregistrement à jet d'encre |
| EP1808296 |
Dispositif semiconductor et réservoir d'encre équipé d'un tel dispositif |
| EP1795627 |
Méthode CVD pour obtenir un film de SiCOH poreux à faible constante diélectrique |
| WO2007058365 |
COMPOSITION POUR LA FORMATION D'UN FILM PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ET PROCEDE DE PRODUCTION D'UN FILM DE FAIBLE CONSTANTE DIELECTRIQUE |
| EP1785278 |
Dispositif semiconducteur et réservoir d'encre équipé d'un tel dispositif |
| WO2007034902 |
COMPOSITION DE RÉSINE, VERNIS, FILM DE RÉSINE ET DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR |
| WO2007032456 |
DISPOSITIFS SEMI–CONDUCTEURS ET LEUR PROCÉDÉ DE TEST |
| EP1760746 |
Dispositif MEMS comprenant des bosses d'écartement et composant plié |
| EP1729174 |
Structures spiralées hors plan à motifs photolithographiques et leur procédé de fabrication |
| EP1721866 |
Dispositif à microsystème électromécanique possedant une poutre tricouche et procédés associés |
| EP1717195 |
Dispositif MEMS à faisceau tricouche et procédés associés |
| EP1710085 |
Dispositif semiconducteur, réservoir d'encre équipé d'un tel dispositif semiconducteur, cartouche de tête à jet d'encre, appareil d'impression et procédé de fabrication de ce dispositif semiconducteur et systéme de communication, méthode de contrôle de pression, élément de mémoire, système de protection d'imprimante à jets d'encre |
| EP1655771 |
PROCEDE DE FORMATION DE FILMS, PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEURS, DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEURS ET SYSTEME DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS |
| FR2877144 |
STRUCTURE MULTICOUCHE MONOLITHIQUE POUR LA CONNEXION DE CELLULES A SEMI–CONDUCTEUR |
| WO2005108468 |
PROCÉDÉ D'ÉLABORATION DE FILM DE SILICE ORGANIQUE, FILM DE SILICE ORGANIQUE, STRUCTURE DE CABLAGE, DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR, ET COMPOSITION POUR FORMATION DE FILM |
| FR2870042 |
STRUCTURE CAPACITIVE DE CIRCUIT INTEGRE |
| FR2869458 |
PROCEDE ET STRUCTURE D'AMELIORATION DE L'ADHERENCE ENTRE LA COUCHE DIELECTRIQUE INTERMETALLIQUE ET LA COUCHE SUPERIEURE |
| EP1580804 |
COMPOSITION DESTINEE A LA FORMATION DE FILM POREUX, FILMS POREUX, PROCEDE DE PRODUCTION DE FILMS POREUX, DIELECTRIQUES INTERCOUCHES, ET DISPOSITIFS A SEMICONDUCTEURS |
| EP1577935 |
Compositions contenant des solvents pour la préparation de matériaux à constante diélectrique faible |
| EP1575088 |
SYSTEME DE MEMOIRE MAGNETIQUE |
| EP1570029 |
MATERIAUX DE FORMATION DE COUCHE DE GAZ |
| EP1568744 |
COMPOSITION DE FORMATION D'UNE COUCHE MINCE POREUSE, COUCHE MINCE POREUSE, SON PROCEDE DE PRODUCTION, COUCHE MINCE D'ISOLATION INTERCOUCHE ET DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEUR |
| EP1566417 |
COMPOSITION POUR FORMER UN FILM POREUX, FILM POREUX, PROCEDE DE PRODUCTION DE CELUI–CI, FILM ISOLANT INTERCOUCHE ET DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEURS |
| EP1566883 |
Oscillateur LC |
| EP1557884 |
Appareil d'examen d'un échantillon biologique et d'un échantillon chimique |
| EP1555687 |
DISPOSITIF A SEMICONDUCTEUR, ET PROCEDE DE FABRICATION |
| EP1535331 |
CONCEPTION D'UNE CAVITE ISOLEE |
| WO2005044899 |
PREPOLYMERE, COMPOSITION DE PREPOLYMERE, POLYMERE A POIDS MOLECULAIRE ELEVE DONT LA STRUCTURE EST PERFOREE ET FILM D'ISOLATION ELECTRIQUE |
| WO2005043623 |
PROCEDE DE FORMATION D'UN DIELECTRIQUE SUR UNE COUCHE DE METALLISATION CONTENANT DU CUIVRE ET ENSEMBLE CONDENSATEUR |
| EP1523034 |
Méthode de fabrication d'une couche de SiC |
| EP1511072 |
Méthode de nettoyage post–gravure de matériaux poreux à faible constante diélectrique |
| WO2005017990 |
PROCEDE DE FORMATION DE FILMS, PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEURS, DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEURS ET SYSTEME DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS |
| EP1502300 |
CIRCUIT ELECTRONIQUE COMPRENANT UN CONDENSATEUR ET AU MOINS UN COMPOSANT SEMICONDUCTEUR, ET PROCEDE DE CONCEPTION D UN TEL CI RCUIT |
| EP1493773 |
Résines à base de siloxanes et couche isolante intermediaire pour semiconducteur faits de celle–ci |
| EP1490454 |
MATIERES EN POLY(ORGANOSILOXANE) ET PROCEDES DESTINES AUX DIELECTRIQUES ORGANIQUES–INORGANIQUES HYBRIDES POUR APPLICATIONS COMPRENANT UN CIRCUIT INTEGRE |
| WO2004107495 |
LIGNES DE TRANSMISSION REGLABLES A FAIBLE PERTE |
| EP1464410 |
Matériau à constante diélectrique faible et procédé de fabrication |
| EP1463770 |
COMPOSITION ORGANIQUE |
| EP1461816 |
DISPOSITIF MEMS COMPRENANT UN CONTACT ET DES BOSSES D'ECARTEMENT, ET PROCEDES ASSOCIES |
| EP1457583 |
Amelioration de la stabilite mechanique de materiaux organosilicate denses ou poreux par rayonnement UV |
| EP1456859 |
COMPOSANT INDUCTIF |
| EP1456434 |
PROCEDE DE DEPOT DE MATERIAUX DIELECTRIQUES DANS DES APPLICATIONS DE DAMASQUINAGE |
| EP1454349 |
DISPOSITIF MEMS A FAISCEAU TRICOUCHE ET PROCEDES ASSOCIES |
| EP1454333 |
DISPOSITIF A MICROSYSTEME ELECTROMECANIQUE POSSEDANT UNE POUTRE TRICOUCHE, ET PROCEDES ASSOCIES |
| EP1451858 |
INTERCONNEXIONS A ADHERENCE DE COUCHE BARRIERE AMELIOREE |
| FR2851373 |
PROCEDE DE FABRICATION D'UN CIRCUIT ELECTRONIQUE INTEGRE INCORPORANT DES CAVITES |
| EP1443662 |
Emetteur–récepteur intégré monolithique à conversion directe avec compensation du décalage en continu et méthode de production correspondante |
| WO2004052642 |
FEUILLE CONDUCTRICE COMPORTANT UNE COUCHE CONDUCTRICE SUR UNE COUCHE RENFERMANT DE L'ETAIN |
| WO2004051745 |
COMPOSANT ELECTRONIQUE COMPRENANT PLUSIEURS PUCES ET PROCEDE DE REALISATION |
| EP1426983 |
Inducteur spiral intégré multipiste |
| WO2004044072 |
COMPOSITION DE FORMATION D'UNE COUCHE MINCE POREUSE, COUCHE MINCE POREUSE, SON PROCEDE DE PRODUCTION, COUCHE MINCE D'ISOLATION INTERCOUCHE ET DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEUR |
| WO2004044972 |
COMPOSITION DESTINEE A LA FORMATION DE FILM POREUX, FILMS POREUX, PROCEDE DE PRODUCTION DE FILMS POREUX, DIELECTRIQUES INTERCOUCHES, ET DISPOSITIFS A SEMICONDUCTEURS |
| WO2004041972 |
MATERIAUX DE FORMATION DE COUCHE DE GAZ |
| WO2004038782 |
DISPOSITIF A SEMICONDUCTEUR, ET PROCEDE DE FABRICATION |
| WO2004025838 |
CODAGE D'INFORMATIONS DANS DES CIRCUITS INTEGRES |
| EP1396884 |
Couche isolante intermédiaire pour un circuit multicouche interconnecté et procédé de fabrication |
| EP1394286 |
Prétraitement d'une couche organique pour un dépôt par couches atomiques |
| EP1392761 |
POLYMERE ORGANOSILICIE ET FILM ISOLANT OBTENU A PARTIR DUDIT POLYMERE |
| FR2843651 |
BOBINE D'INDUCTION POUR CIRCUIT INTEGRE A SEMI–CONDUCTEUR ET PROCEDE DE FABRICATION DE CELLE–CI |
| EP1386333 |
CONDENSATEUR A ELECTRODES AMELIOREES |
| EP1376672 |
PROCEDE ET DISPOSITIF DE DEPOT, COUCHE ISOLANTE ET CIRCUIT INTEGRE A SEMI–CONDUCTEUR |
| FR2841381 |
CIRCUIT INTEGRE A SEMI–CONDUCTEUR ET UN PROCEDE DE FABRICATION DU CIRCUIT |
| WO03107445 |
DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEUR, CIRCUIT A SEMI–CONDUCTEUR ET PROCEDE DE PRODUCTION D'UN DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEUR |
| EP1369907 |
Matériaux à faible constante diélectrique et procédés de fabrication ceux–ci |
| FR2839811 |
CONDENSATEUR EN TRANCHEES DANS UN SUBSTRAT AVEC DEUX ELECTRODES FLOTTANTES ET INDEPENDANTES DU SUBSTRAT |
| FR2839581 |
CIRCUIT ELECTRONIQUE COMPRENANT UN CONDENSATEUR ET AU MOINS UN COMPOSANT SEMICONDUCTEUR, ET PROCEDE DE CONCEPTION D'UN TEL CIRCUIT |
| WO03081670 |
DISPOSITIF AMPLIFICATEUR DE PUISSANCE |
| EP1349268 |
Amplificateur MOS à gain variable peu bruyant à grande dynamique et à haute linéarité |
| WO03079439 |
CONCEPTION D'UNE CAVITE ISOLEE |
| EP1347510 |
Structure contenant un câblage et procédé de sa fabrication |
| WO03070809 |
ORGANOSILOXANES |
| EP1336201 |
SYSTEME DE CIRCUIT INTEGRE PROTEGE DE L'ANALYSE, ET PROCEDE DE REALISATION DU SYSTEME |
| EP1332518 |
STRUCTURE D'INDUCTANCE DE CIRCUIT INTEGRE ET MESURE NON DESTRUCTRICE DE PROFONDEUR DE GRAVURE |
| WO03063205 |
MATIERES EN POLY(ORGANOSILOXANE) ET PROCEDES DESTINES AUX DIELECTRIQUES ORGANIQUES–INORGANIQUES HYBRIDES POUR APPLICATIONS COMPRENANT UN CIRCUIT INTEGRE |
| WO03057755 |
COMPOSITION ORGANIQUE |
| WO03052162 |
PROCEDE DE DEPOT DE MATERIAUX DIELECTRIQUES DANS DES APPLICATIONS DE DAMASQUINAGE |
| EP1321976 |
Procédé de dépôt d'une couche barrière isolante à faible constante diélectrique sur une couche de cuivre |
