| N° de brevet |
Brevet |
| FR2905946 |
MISE EN FORME D'UNE COUCHE SACRIFICIELLE POUR REALISER UN ELEMENT SUSPENDU |
| EP1882057 |
STRUCTURE DE SILICIUM TRES RESISTIVE ET PROCEDE DE PREPARATION DE CELLE–CI |
| WO2008010541 |
PROCÉDÉ DE RÉDUCTION DE DISLOCATION DANS UN CRISTAL DE NITRURE DE GROUPE III ET SUBSTRAT POUR CROISSANCE ÉPITAXIALE |
| FR2903809 |
TRAITEMENT THERMIQUE DE STABILISATION D'INTERFACE E COLLAGE. |
| FR2902926 |
PROCEDE ET DISPOSITIF DE SUIVI D'UN TRAITEMENT THERMIQUE D'UN SUBSTRAT MICROTECHNOLOGIQUE. |
| EP1837904 |
Procédé pour la fabrication d'un substrat au carbure de silicium monocristallin de type couche isolante enterrée et dispositif de fabrication correspondant |
| FR2895420 |
PROCEDE DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE DEMONTABLE EN FORME DE PLAQUE, EN PARTICULIER EN SILICIUM, ET APPLICATION DE CE PROCEDE. |
| FR2894068 |
PROCEDE ET EQUIPEMENT DE COLLAGE PAR ADHESION MOLECULAIRE |
| EP1785511 |
PLAQUETTE DE SILICIUM, PROCEDE DE FABRICATION DE LADITE PLAQUETTE ET PROCEDE DE CROISSANCE DE CRISTAL SIMPLE DE SILICIUM |
| EP1782458 |
SEMI–CONDUCTEURS MAGNETIQUES DOPES AU CUIVRE |
| WO2007023855 |
DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, DISPOSITIF CHAUFFANT UTILISÉ POUR CELA ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SEMI–CONDUCTEUR UTILISANT LES DISPOSITIFS |
| EP1756855 |
SEMI–CONDUCTEURS MAGNETIQUES DOPES AU MANGANESE |
| EP1752725 |
EQUIPEMENT DE TRAITEMENT THERMIQUE VERTICAL ET METHODE DE TRANSFERT DE L'OBJET A TRAITER |
| WO2007013189 |
PLAQUE DE SILICIUM ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELLE–CI |
| WO2006125069 |
STRUCTURE DE SILICIUM TRES RESISTIVE ET PROCEDE DE PREPARATION DE CELLE–CI |
| EP1715086 |
Méthode por réduire des défaults à l'intérieur de cristaux |
| WO2006082469 |
PROCEDE POUR APPLIQUER UN TRAITEMENT A HAUTE TEMPERATURE SUR UNE PLAQUETTE DE SEMI–CONDUCTEUR |
| EP1684336 |
DISPOSITIF DE TRAITEMENT THERMIQUE ET PROCEDE DE TRAITEMENT THERMIQUE |
| EP1677344 |
PROCEDE SERVANT A FABRIQUER UNE TRANCHE DE SILICIUM EXTREMEMENT RESISTANTE, PROCEDE SERVANT A FABRIQUER UNE TRANCHE EPITAXIALE ET TRANCHE SOI |
| EP1665350 |
PROCEDE POUR TRAITER DES COUCHES SEMICONDUCTRICES OBTENUES PAR CROISSANCE HETEROEPITAXIALE SUR DES SUBSTRATS SEMI–CONDUCTEURS, SUBSTRAT SEMI–CONDUCTEUR COMPORTANT UNE COUCHE SEMICONDUCTRICE AINSI TRAITEE ET COMPOSANT A SEMI–CONDUCTEUR CONSTITUE D'UN TEL SUBSTRAT SEMI–CONDUCTEUR |
| EP1665351 |
STRUCTURE MULTI–ZONES APTE A SUBIR UN RECUIT PAR IRRADIATION LUMINEUSE ET PROCEDE DE MISE EN OEUVRE DE LADITE STRUCTURE |
| FR2874455 |
TRAITEMENT THERMIQUE AVANT COLLAGE DE DEUX PLAQUETTES |
| EP1614775 |
Procédé d'améliorer la planétié d'une surface d'un cristal de nitrure de groupe III, substrat pour la croissance épitaxiale et dispositif semi–conducteur |
| WO2005093354 |
ÉQUIPEMENT DE TRAITEMENT THERMIQUE VERTICAL ET MÉTHODE DE TRANSFERT DE L'OBJET À TAITER |
| EP1583161 |
MATERIAU A GRADIENT STRUCTUREL ET ELEMENT FONCTIONNEL COMPRENANT CELUI–CI |
| FR2866471 |
PROCEDE DE REALISATION D'UN CIRCUIT ELECTRONIQUE INTEGRE ET CIRCUIT ELECTRONIQUE INTEGRE AINSI OBTENU |
| EP1540708 |
FOUR DE CUISSON PAR LOTS |
| WO2005053010 |
PLAQUETTE RECUITE ET METHODE DE FABRICATION DE CETTE PLAQUETTE RECUITE |
| WO2005043609 |
DISPOSITIF DE TRAITEMENT THERMIQUE ET PROCEDE DE TRAITEMENT THERMIQUE |
| WO2005038899 |
PROCEDE SERVANT A FABRIQUER UNE TRANCHE DE SILICIUM EXTREMEMENT RESISTANTE, PROCEDE SERVANT A FABRIQUER UNE TRANCHE EPITAXIALE ET TRANCHE SOI |
| WO2005031825 |
PROCEDE POUR TRAITER DES COUCHES SEMICONDUCTRICES OBTENUES PAR CROISSANCE HETEROEPITAXIALE SUR DES SUBSTRATS SEMI–CONDUCTEURS, SUBSTRAT SEMI–CONDUCTEUR COMPORTANT UNE COUCHE SEMICONDUCTRICE AINSI TRAITEE ET COMPOSANT A SEMI–CONDUCTEUR CONSTITUE D'UN TEL SUBSTRAT SEMI–CONDUCTEUR |
| EP1516361 |
PROCEDE DE PRODUCTION DE CRISTAUX DE HAUTE PURETE, EN CARBURE DE SILICIUM SEMI–ISOLANTS, PRESENTANT UNE RESISTIVITE |
| FR2859820 |
STRUCTURE MULTI–ZONES APTE A SUBIR UN RECUIT PAR IRRADIATION LUMINEUSE ET PROCEDE DE MISE EN OEUVRE DE LADITE STRUCTURE |
| EP1513191 |
Dispositif de chauffage comprenant une fonction d'adsorption électrostatique |
| EP1512169 |
PROCEDES ET SYSTEMES POUR ETABLIR DES PROFILS DE DOPANTS |
| WO2005010243 |
PROCEDE DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT DE SILICIUM A CRISTAL UNIQUE, METHODE DE MESURE DE CARACTERISTIQUES DE RESISTANCE ET METHODE PERMETTANT DE GARANTIR DES CARACTERISTIQUES DE RESISTANCE |
| EP1495489 |
TECHNIQUES DE FORMATION CHIMIQUE DE COUCHES DE FILM MINCE A L'AIDE DE PROCESSUS THERMIQUES RAPIDES |
| EP1485947 |
COMMUTATION A REFLECTIVITE INDUITE THERMIQUEMENT POUR UN TRAITEMENT THERMIQUE LASER |
| FR2854729 |
ELEMENT COMPRENANT UNE REGION POREUSE ET PROCEDE POUR SA FABRICATION |
| EP1463108 |
Méthode de fabrication d'un substrat monocristallin de carbure de silicium comprenant une couche isolante enterrée et dispositif pour son exécution |
| EP1440467 |
PROCEDE DE CARACTERISATION D'UNE ETAPE D'IMPLANTATION DANS UN SUBSTRAT |
| WO2004049393 |
PROCEDE ET DISPOSITIF DE RECUIT D'UNE PLAQUETTE SEMI–CONDUCTRICE |
| FR2847714 |
PROCEDE ET DISPOSITIF DE RECUIT DE TRANCHE DE SEMICONDUCTEUR |
| WO2004044969 |
UNITE DE SOUPAPE ET SYSTEME DE TRAITEMENT THERMIQUE |
| EP1416530 |
Traitement d'une couche d'une barrière d'un tunnel |
| EP1412687 |
ELEMENT CHAUFFANT POUR DISPOSITIFS A ACTION COMBINEE D'ECHAUFFEMENT–REFROIDISSEMENT, ET PROCEDES |
| WO2004032215 |
RECUIT LASER A FOCALISATION LINEAIRE D'UNE ESPECE ENTERREE |
| EP1393360 |
PROCEDE ET DISPOSITIF POUR LE TRAITEMENT THERMIQUE DE COURTE DUREE D'OBJETS PLATS |
| WO2004013903 |
SYSTEME ET PROCEDE DE TRAITEMENT DE LOTS DE TRANCHES |
| WO2004013901 |
FOUR DE CUISSON PAR LOTS |
| EP1386348 |
DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEUR ET PROCEDE DE FABRICATION DUDIT DISPOSITIF |
| WO2004007105 |
APPAREIL ET PROCEDE DE REMPLISSAGE D'UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT DE PLAQUETTE A SEMICONDUCTEUR |
| WO2004008008 |
COMMANDE D'UN ENVIRONNEMENT GAZEUX DANS UNE CHAMBRE DE CHARGEMENT DE TRANCHES |
| EP1378591 |
Méthode pour éliminer des défauts à l'intérieur de cristaux |
| WO2004001836 |
PROCEDE DE PRODUCTION DE CRISTAUX DE HAUTE PURETE, EN CARBURE DE SILICIUM SEMI–ISOLANTS, PRESENTANT UNE RESISTIVITE |
| FR2841040 |
PROCEDE DE TEST ET DE REGLAGE D'UNE INSTALLATION DE CHAUFFAGE PAR LAMPES |
| WO03090272 |
TECHNIQUES DE FORMATION CHIMIQUE DE COUCHES DE FILM MINCE A L'AIDE DE PROCESSUS THERMIQUES RAPIDES |
| EP1357583 |
DISPOSITIF DE TRAITEMENT A FEUILLES |
| EP1355346 |
Appareil de traitement de couches de semi–conducteurs à basse température |
| WO03079423 |
COMMUTATION A REFLECTIVITE INDUITE THERMIQUEMENT POUR UN TRAITEMENT THERMIQUE LASER |
| WO03077598 |
SYSTEME ET PROCEDE POUR LA COMMANDE DE LAMPES PAR DIVISION DES ZONES |
| EP1332517 |
PROCEDE DE REVELATION DE DEFAUTS CRISTALLINS ET/OU DE CHAMPS DE CONTRAINTES A L'INTERFACE D'ADHESION MOLECULAIRE DE DEUX MATERIAUX SOLIDES |
| WO03063206 |
PROCEDE DE DOPAGE DE SUBSTRATS AU NITRURE DE GALLIUM (GAN) ET SUBSTRATS GAN DOPES AINSI OBTENUS |
| WO03041143 |
DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR FAISCEAU LASER ET DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR |
| FR2830372 |
PROCEDE DE CARACTERISATION D'UNE ETAPE D'IMPLANTATION DANS UN SUBSTRAT DE MATERIAU |
| EP1287549 |
APPAREIL ET PROCEDE DE FORMATION DE STRUCTURE UTILISANT UNE STRUCTURE CRISTALLINE DE MATERIAU |
| EP1285977 |
Dispositif et méthode pour l'isolation d'un joint d'étanchité dans un chambre de traitement |
| EP1282912 |
INTRODUCTION DE DEFAUTS DANS DES CRISTAUX OU DES STRUCTURES DE TYPE CRISTALLINES |
| EP1277228 |
GESTION DE LA CHALEUR DANS UN EQUIPEMENT DE TRAITEMENT DE TRANCHES AU MOYEN D'UN DISPOSITIF THERMOELECTRIQUE |
| WO02099349 |
ELEMENT CHAUFFANT POUR DISPOSITIFS A ACTION COMBINEE D'ECHAUFFEMENT–REFROIDISSEMENT, ET PROCEDES |
| WO02091441 |
DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEUR ET PROCEDE DE FABRICATION DUDIT DISPOSITIF |
| EP1255291 |
Formation de nitrure de gallium de type p à faible résistivité |
| WO02084728 |
COMMANDE DE LA FORMATION D'UN DONNEUR THERMIQUE DANS LE SILICIUM D'OXYDE DE ZIRCONIUM A HAUTE RESISTIVITE |
| WO02082518 |
APPAREIL ET PROCEDE DE FORMATION DE STRUCTURE UTILISANT UNE STRUCTURE CRISTALLINE DE MATERIAU |
| EP1235953 |
MINI FOUR DISCONTINU |
| WO0247143 |
PROCEDES ET SYSTEMES DE TRAITEMENT THERMIQUE |
| WO0247123 |
PROCEDES ET SYSTEMES POUR TRAITEMENT THERMIQUE |
| WO0241370 |
APPAREILS ET PROCEDES DE CHAUFFAGE PAR RESISTANCE D'UN SYSTEME DE TRAITEMENT THERMIQUE |
| FR2815121 |
PROCEDE DE REVELATION DE DEFAUTS CRISTALLINS ET/OU DE CHAMPS DE CONTRAINTES A L'INTERFACE D'ADHESION MOLECULAIRE DE DEUX MATERIAUX SOLIDES |
| WO0229876 |
PROCEDE DE REVELATION DE DEFAUTS CRISTALLINS ET/OU DE CHAMPS DE CONTRAINTES A L'INTERFACE D'ADHESION MOLECULAIRE DE DEUX MATERIAUX SOLIDES |
