| N° de brevet |
Brevet |
| EP1889285 |
PROCEDE ET SYSTEME DE FABRICATION PAR L'ENVERS DE COMPOSANTS SEMI–CONDUCTEURS AVEC INTERCONNEXIONS CONDUCTRICES |
| FR2902233 |
PROCEDE DE LIMITATION DE DIFFUSION EN MODE LACUNAIRE DANS UNE HETEROSTRUCTURE |
| FR2901914 |
CARACTERISATION D'UNE COUCHE IMPLANTEE |
| FR2899378 |
PROCEDE DE DETACHEMENT D'UN FILM MINCE PAR FUSION DE PRECIPITES |
| FR2899377 |
PROCEDE DE REALISATION DE STRUCTURES EN MULTICOUCHES A PROPRIETES CONTROLEES |
| FR2898729 |
DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR ET PROCEDE D'IMPLANTATION DE DOPANTS DANS UN CANAL |
| FR2898433 |
PROCEDE DE PREPARATION D'UN SEMI–CONDUCTEUR. |
| EP1833079 |
Procédé et appareillage pour le traitement de plaquettes |
| WO2007094231 |
PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT SEMI–CONDUCTEUR |
| WO2007087213 |
PROCÉDÉS D'IMPLANTATION D'IONS ET SOURCES D'IONS UTILISÉES POUR LESDITS PROCÉDÉS |
| WO2007087212 |
PROCÉDÉS D'IMPLANTATION D'IONS ET SOURCES D'IONS UTILISÉES POUR LESDITS PROCÉDÉS |
| FR2894989 |
PROCEDE DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT COMPOSITE ET SUBSTRAT COMPOSITE SELON LEDIT PROCEDE |
| WO2007035983 |
DÉTECTEUR D'IONS |
| EP1755155 |
Nanostructures semiconducteurs et leur fabrication |
| EP1719823 |
SYSTEME D'IMPLANTATION IONIQUE |
| EP1713116 |
PROCEDE DE PRODUCTION D'UN DIAMANT SEMI–CONDUCTEUR DU TYPE N ET DIAMANT SEMI–CONDUCTEUR DU TYPE N |
| WO2006107044 |
PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE TRAITEMENT PLASMA |
| EP1697559 |
CROISSANCE ORGANISEE DE NANO–STRUCTURES |
| WO2005114307 |
LASER MODULÉ PAR MODULATEUR ÉLECTROABSORBANT À IMPLANTATION LATÉRALE |
| EP1580789 |
Procédé et dispositif pour l'implantation ionique |
| EP1579481 |
DISPOSITIF D'IMPLANTATION IONIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION DE SEMI–CONDUCTEURS PAR IMPLANTATION D'AGREGATS D'IONS D'HYDRURE DE BORE |
| EP1557868 |
Un procédé de traitement d'irradiation par lumière et un appareil de traitement d'irradiation par lumière |
| FR2864109 |
CROISSANCE ORGANISEE DE NANO–STRUCTURES |
| EP1540558 |
PROCEDE ET SYSTEME D'OPTIMISATION DE SAS DE CHARGE |
| EP1535324 |
PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIFS CMOS PAR IMPLANTATION D'IONS EN GRAPPES DE TYPE N ET P ET D'IONS NEGATIFS |
| EP1532288 |
SYSTEME ET PROCEDES DE DEPOT PAR FAISCEAU HYBRIDE POUR FABRICATION DE COUCHES MINCES DE ZNO ET D'OXYDE DE METAL, DE COUCHES MINCES DE ZNO DE TYPE P, ET DE DISPOSITIFS SEMI–CONDUCTEURS DE COMPOSES II–VI A BASE DE ZNO |
| WO2005041279 |
PROCEDE DE PRODUCTION D'UN DIAMANT SEMI–CONDUCTEUR DU TYPE N ET DIAMANT SEMI–CONDUCTEUR DU TYPE N |
| EP1525601 |
PROCEDES ET DISPOSITIFS SERVANT A CONTROLER DES PARAMETRES DE PLASMA DANS DES SYSTEMES DE DOPAGE AU PLASMA |
| EP1514297 |
PROCEDE DE REALISATION PAR EPITAXIE D UN FILM DE NITRURE DE GALLIUM SEPARE DE SON SUBSTRAT |
| EP1512169 |
PROCEDES ET SYSTEMES POUR ETABLIR DES PROFILS DE DOPANTS |
| FR2856842 |
PROCEDE D'OXYDATION DU SILICIUM |
| EP1485947 |
COMMUTATION A REFLECTIVITE INDUITE THERMIQUEMENT POUR UN TRAITEMENT THERMIQUE LASER |
| WO2004090947 |
DETECTEUR D'ANGLE D'INCIDENCE D'UN FAISCEAU D'IONS POUR SYSTEMES D'IMPLANTATION D'IONS |
| EP1459361 |
STRUCTURES EN COUCHES |
| EP1440467 |
PROCEDE DE CARACTERISATION D'UNE ETAPE D'IMPLANTATION DANS UN SUBSTRAT |
| FR2849529 |
MASQUE STENCIL AVEC MOYEN D'EMPECHEMENT D'ACCUMULATION DE CHARGES ET PROCEDE POUR SA FABRICATION |
| FR2848726 |
TRANSISTOR MIS A GRILLE AUTO–ALIGNEE ET SON PROCEDE DE FABRICATION |
| EP1421608 |
PROCEDE ET SYSTEME D'IMPLANTATION D'IONS UNIQUES |
| FR2846146 |
PROCEDE ET INSTALLATION DE DOPAGE D'UN MOTIF D'ELEMENTS RESISTIFS GRAVE |
| WO2004032215 |
RECUIT LASER A FOCALISATION LINEAIRE D'UNE ESPECE ENTERREE |
| WO2004020686 |
SYSTEME ET PROCEDES DE DEPOT PAR FAISCEAU HYBRIDE POUR FABRICATION DE COUCHES MINCES DE ZNO ET D'OXYDE DE METAL, DE COUCHES MINCES DE ZNO DE TYPE P, ET DE DISPOSITIFS SEMI–CONDUCTEURS DE COMPOSES II–VI A BASE DE ZNO |
| WO2004012220 |
PROCEDES ET DISPOSITIFS SERVANT A CONTROLER DES PARAMETRES DE PLASMA DANS DES SYSTEMES DE DOPAGE AU PLASMA |
| EP1376668 |
DISPOSITIF DE TRAITEMENT PLASMA PAR MICRO–ONDES, PROCEDE D'ALLUMAGE DE PLASMA, PROCEDE DE FORMATION DE PLASMA ET PROCEDE DE TRAITEMENT PLASMA |
| EP1376700 |
PLAQUETTE DE SILICIUM SUR ISOLANT ET PROCEDE DE FABRICATION ASSOCIE |
| WO2004001789 |
BALAYAGE MECANIQUE MULTIDIRECTIONNEL AYANT LIEU DANS UN IMPLANTEUR IONIQUE |
| FR2841040 |
PROCEDE DE TEST ET DE REGLAGE D'UNE INSTALLATION DE CHAUFFAGE PAR LAMPES |
| WO03102993 |
COUPE–FAISCEAU POUR SYSTEME D'IMPLANTATION IONIQUE |
| FR2840452 |
PROCEDE DE REALISATION PAR EPITAXIE D'UN FILM DE NITRURE DE GALLIUM SEPARE DE SON SUBSTRAT |
| WO03088303 |
BALAYAGE MULTIDIRECTIONNEL D'ELEMENT MOBILE ET DISPOSITIF DE SURVEILLANCE DE FAISCEAU IONIQUE ASSOCIE |
| EP1355346 |
Appareil de traitement de couches de semi–conducteurs à basse température |
| EP1352411 |
OUVERTURE REGLABLE LIMITANT LA CONDUCTANCE POUR IMPLANTEURS D'IONS |
| EP1348226 |
PROCEDE ET APPAREIL POUVANT AMELIORER L'ACCELERATION D'IONS DANS UN SYSTEME D'IMPLANTATION IONIQUE |
| WO03079423 |
COMMUTATION A REFLECTIVITE INDUITE THERMIQUEMENT POUR UN TRAITEMENT THERMIQUE LASER |
| EP1345701 |
PIEGE COLLECTEUR DE CONTAMINANTS POUR IMPLANTEUR IONIQUE |
| EP1341949 |
PROCEDE ET SYSTEME POUR L'IMPLANTATION D'ICOSABORANE |
| EP1335998 |
APPAREIL ET PROCEDE DE DOPAGE DE COUCHE ATOMIQUE |
| EP1336188 |
EXTRACTION ET DECELERATION DE FAISCEAU DE FAIBLE ENERGIE PRESENTANT UNE FAIBLE DIVERGENCE DE FAISCEAU |
| EP1336190 |
SYSTEME ET PROCEDES DE BALAYAGE HYBRIDE POUR IMPLANTATION IONIQUE |
| EP1332652 |
MECANISME DE PREVENTION DE RAYONNEMENTS DE NEUTRONS DANS LA LIGNE DE FAISCEAU D'UN IMPLANTEUR IONIQUE |
| FR2835097 |
PROCEDE OPTIMISE DE REPORT D'UNE COUCHE MINCE DE CARBURE DE SILICIUM SUR UN SUBSTRAT D'ACCUEIL |
| EP1329938 |
Apparail d'irradiation ionique |
| EP1319244 |
PROCEDES ET SYSTEMES DESTINES A DES PROCESSUS DE FABRICATION DE SEMI–CONDUCTEURS |
| EP1317764 |
SYSTEME DE FARADAY POUR IMPLANTEURS IONIQUES |
| EP1314181 |
PIEGE ELECTROSTATIQUE DESTINE A DES PARTICULES ENTRAINEES DANS UN FAISCEAU IONIQUE |
| WO03043066 |
STRUCTURES EN COUCHES |
| EP1306879 |
Procédé et appareil d'implantation ionique |
| EP1304186 |
Méthode d'irradiation à laser et dispositif à irradiation à laser et méthode de fabrication d'un dispositif à semiconducteur |
| FR2830983 |
PROCEDE DE FABRICATION DE COUCHES MINCES CONTENANT DES MICROCOMPOSANTS |
| FR2830372 |
PROCEDE DE CARACTERISATION D'UNE ETAPE D'IMPLANTATION DANS UN SUBSTRAT DE MATERIAU |
| EP1297567 |
IMPLANT D'HYDROGENE POUR ZONE TAMPON DE TRANSISTOR BIPOLAIRE A PORTE ISOLEE, NON EPITAXIAL, A PERFORATION |
| EP1298234 |
Procédé de fabrication d'un substrat monocristallin |
| WO03019635 |
PROCEDE ET SYSTEME D'IMPLANTATION D'IONS UNIQUES |
| EP1286391 |
Appareil et procédé de serrage un substrat |
| EP1284304 |
Procédé pour implantation d'ions dans une cible |
| EP1258029 |
PROCEDE DE TRAITEMENT D'UNE SURFACE DE DIAMANT ET SURFACE DE DIAMANT CORRESPONDANTE |
| EP1254591 |
PROCEDES ET APPAREIL PERMETTANT DE FAIRE FONCTIONNER UN ACCELERATEUR HAUTE ENERGIE EN MODE FAIBLE ENERGIE |
| WO02084738 |
PLAQUETTE DE SILICIUM SUR ISOLANT ET PROCEDE DE FABRICATION ASSOCIE |
| EP1249032 |
SYSTEME DE DOPAGE AU PLASMA COMPORTANT UNE CATHODE CREUSE |
| WO02080254 |
DISPOSITIF DE TRAITEMENT PLASMA PAR MICRO–ONDES, PROCEDE D'ALLUMAGE DE PLASMA, PROCEDE DE FORMATION DE PLASMA ET PROCEDE DE TRAITEMENT PLASMA |
| EP1236221 |
CONTROLE DES DOSES POUR SYSTEME DE DOPAGE AU PLASMA |
