| N° de brevet |
Brevet |
| WO2008001431 |
SUBSTRAT DE FORMATION DE LARGE PELLICULE |
| WO2007132698 |
boîtier à réticule |
| FR2899697 |
MASQUE DE PHOTOLITOGRAPHIE EN EXTREME ULTRA–VIOLET, AVEC COUCHE D'ARRET RESONANTE |
| EP1832924 |
Bande de contrôle de processus et procédé d'enregistrement |
| EP1829836 |
LARGE SUBSTRAT DE VERRE POUR PHOTOMASQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI–CI, SUPPORT D ENREGISTREMENT LISIBLE PAR ORDINATEUR, ET PROCÉDÉ D EXPOSITION DE VERRE–MÈRE |
| WO2007094197 |
DISPOSITIF DE PROTECTION, MASQUE ET DISPOSITIF D'EXPOSITION |
| WO2007072890 |
SUBSTRAT DE VERRE POUR EBAUCHE DE MASQUE ET PROCEDE DE POLISSAGE POUR PRODUIRE CE SUBSTRAT |
| WO2007068617 |
PROCEDE DE FABRICATION DE MASQUE LITHOGRAPHIQUE EN REFLEXION ET MASQUE ISSU DU PROCEDE |
| FR2894690 |
MASQUE DE LITHOGRAPHIE EN REFLEXION ET PROCEDE DE FABRICATION DU MASQUE |
| FR2894691 |
PROCEDE DE FABRICATION DE MASQUE LITHOGRAPHIQUE EN REFLEXION ET MASQUE ISSU DU PROCEDE |
| FR2894346 |
MASQUE DE PHOTOLITHOGRAPHIE EN EXTREME ULTRA–VIOLET, A CAVITES ABSORBANTES |
| FR2893018 |
PROCEDE DE FORMATION DE SUPPORTS PRESENTANT DES MOTIFS, TELS QUE DES MASQUES DE LITHOGRAPHIE. |
| EP1753609 |
MASQUE POUR LITHOGRAPHIE AUX ULTRAVIOLETS EXTREMES (EUVL) A DIFFUSION DE LA LUMIERE |
| WO2006134855 |
LARGE SUBSTRAT DE VERRE POUR PHOTOMASQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI–CI, SUPPORT D'ENREGISTREMENT LISIBLE PAR ORDINATEUR, ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE VERRE–MÈRE |
| FR2884965 |
STRUCTURE DE BLANC DE MASQUE AJUSTABLE POUR MASQUE EUV A DECALAGE DE PHASE |
| EP1715329 |
Appareil et procédé d'inspection de particules, appareil d'exposition et procédé de fabrication |
| EP1690883 |
PELLICULE ET NOUVEAU POLYMERE FLUORE |
| WO2006080060 |
ETUI POUR LOGER UNE PELLICULE DE GRANDE TAILLE |
| WO2006059388 |
PROCEDE DE LOGEMENT D'UNE GRANDE PELLICULE |
| FR2876808 |
STRUCTURE DE MASQUE POUR LITHOGRAPHIE |
| WO2006035894 |
ÉLÉMENT SUPPORT DE CARTE REVÊTUE DE FILM MINCE, CONTENEUR DE STOCKAGE DE CARTE REVÊTUE DE FILM MINCE, CORPS DE STOCKAGE D'ÉBAUCHE DE MASQUE, CORPS DE STOCKAGE DE MASQUE DE TRANSFERT ET PROCÉDÉ DE TRANSPORT DE CARTE REVÊTUE DE FILM MINCE |
| EP1643542 |
MASQUE DE TEST DE FOCALISATION, PROCEDE DE MESURE DE FOCALISATION ET DISPOSITIF D'EXPOSITION |
| EP1642171 |
MASQUE D'EXPOSITION, SON PROCEDE DE CONCEPTION ET DE FABRICATION, PROCEDE D'EXPOSITION ET APPAREIL ASSOCIE, PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF |
| WO2006028227 |
ADHÉSIF |
| WO2006028228 |
BOÎTE DE RANGEMENT DE SUBSTRAT DE VERRE, DISPOSITIF D'ÉCHANGE DE SUBSTRAT DE VERRE, DISPOSITIF DE GESTION DE SUBSTRAT DE VERRE, PROCÉDÉ DE DISTRIBUTION DE SUBSTRAT DE VERRE, ÉLÉMENT D'ÉTANCHÉITÉ, ET STRUCTURE D'ÉTANCHÉITÉ UT |
| EP1624480 |
PROCEDE D'EXPOSITION, MASQUE, PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEUR ET DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEUR |
| WO2005115743 |
MASQUE POUR LITHOGRAPHIE AUX ULTRAVIOLETS EXTREMES (EUVL) A DIFFUSION DE LA LUMIERE |
| EP1602007 |
PROCEDE DE MODELISATION D'UNE PHOTORESINE SUR UNE TRANCHE A L'AIDE D'UN MASQUE REFLECHISSANT AVEC UN REVETEMENT ANTIREFLECHISSANT MULTICOUCHE |
| EP1584979 |
Ebauche de masque ayant une couche de protection |
| EP1586008 |
MASQUES PHOTOGRAPHIQUES A DEMI–TEINTE BINAIRE, DISPOSITIFS TRIDIMENSIONNELS MICROSCOPIQUES ET PROCEDES DE FABRICATION ASSOCIES |
| EP1566691 |
Méthode de correction des structures d'un masque, masque d'exposition, et procédé de fabrication d'un masque |
| EP1564793 |
DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCEDE D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIFS A SEMI–CONDUCTEUR |
| FR2865813 |
MASQUE A MOTIFS PROTEGES, POUR LA LITHOGRAPHIE PAR REFLEXION DANS LE DOMAINE DE L'EXTREME UV ET DES RAYONS X MOUS |
| EP1548806 |
PROCEDE D'ALIGNEMENT, SUBSTRAT D'ALIGNEMENT, PROCEDE DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT D'ALIGNEMENT, PROCEDE D'EXPOSITION, SYSTEME D'EXPOSITION ET PROCEDE DE PRODUCTION D'UN MASQUE |
| FR2863772 |
PROCEDE DE REPARATION D'ERREURS DE MOTIFS REALISES DANS DES COUCHES MINCES |
| WO2005054336 |
PELLICULE ET NOUVEAU POLYMERE FLUORE |
| FR2863065 |
PROCEDE DE REALISATION D'UN DESSIN SUR PLAQUE DE VERRE GRAINEE EN VUE D INSOLER UNE PLAQUE OFFSET |
| EP1536284 |
MASQUE DE DEPHASAGE ET SON PROCEDE DE FABRICATION ; PROCEDE DE FABRICATION POUR DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR |
| WO2005038527 |
AMELIORER L'EFFICACITE DE LA PHOTORESINE PAR DES CHAMPS ELECTRIQUES |
| WO2005031468 |
PROCEDE DE PRODUCTION DE LUMIERE DANS LE CHAMP PROCHE, MASQUE D'EXPOSITION DANS LE CHAMP PROCHE, ET PROCEDE ET DISPOSITIF POUR L'EXPOSITION DANS LE CHAMP PROCHE |
| EP1516863 |
Vitrocéramiques transparentes à expansion thermique ultra–faible |
| WO2005022259 |
FIXATION D'UN CADRE DE PELLICULE SUR UN RETICULE |
| WO2005022265 |
PROCEDE POUR FORMER DES IMAGES OPTIQUES, APPAREIL POUR LA MISE EN OEUVRE DUDIT PROCEDE, ET PROCEDE POUR FABRIQUER UN DISPOSITIF A L'AIDE DUDIT PROCEDE |
| WO2005015616 |
DISPOSITIF ET PROCEDE D'EXPOSITION UTILISANT UN FAISCEAU ELECTRONIQUE |
| EP1506454 |
PHOTORESINE SENSIBILISEE A AMPLIFICATION CHIMIQUE A UTILISER DANS LA FABRICATION D'UN PHOTOMASQUE ET DANS LE TRAITEMENT DE SEMI–CONDUCTEURS |
| WO2005010612 |
INSPECTION DES DEFAUTS SUR DES MASQUES DE LITHOGRAPHIE A L'ULTRAVIOLET EXTREME ET SIMILAIRES |
| EP1500718 |
Procédé pour la préparation d'un film de diamant |
| EP1498936 |
EBAUCHE DE MASQUE DE TYPE REFLECHISSANT ET MASQUE DE TYPE REFLECHISSANT ET LEURS PROCEDES DE PRODUCTION |
| WO2005004211 |
MASQUE DE TEST DE FOCALISATION, PROCEDE DE MESURE DE FOCALISATION ET DISPOSITIF D'EXPOSITION |
| WO2005001569 |
MASQUE D'EXPOSITION, SON PROCEDE DE CONCEPTION ET DE FABRICATION, PROCEDE D'EXPOSITION ET APPAREIL ASSOCIE, PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF |
| EP1486830 |
Procédé de fabrication d'un dispositif |
| WO2004104705 |
PREPARATION D'UN ELEMENT D'IMAGERIE AU MOYEN D'UNE COUCHE DE PROTECTION A MICRO–GEL |
| EP1481288 |
ELEMENTS A RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTREME A STRIES REDUITES |
| WO2004102645 |
PROCEDE D'EXPOSITION, MASQUE, PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEUR ET DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEUR |
| WO2004099879 |
PROCEDE POUR DETECTER LA POSITION RELATIVE D'UN MASQUE D'EXPOSITION ET D'UN OBJET A EXPOSER, PROCEDE D'ALIGNEMENT ET PROCEDE D'EXPOSITION ASSOCIE |
| EP1475663 |
Ebauche de masque pour l'usage dans EUV–lithographie et son procédé de fabrication |
| EP1471385 |
Systeme d'inspection d'objets, en particulier de masques pour la microlithographie |
| EP1471386 |
Procédé lithographique et appareil produit en utilisant ce procédé |
| FR2853418 |
DISPOSITIF OPTIQUE A STABILITE MECANIQUE RENFORCEE FONCTIONNANT DANS L'EXTREME ULTRAVIOLET ET MASQUE DE LITHOGRAPHIE COMPORTANT UN TEL DISPOSITIF |
| EP1465009 |
Masques photolithographiques avec motifs auxiliaires sous forme de chenaux |
| WO2004079780 |
PROCEDE DE MODELISATION D'UNE PHOTORESINE SUR UNE TRANCHE A L'AIDE D'UN MASQUE REFLECHISSANT AVEC UN REVETEMENT ANTIREFLECHISSANT MULTICOUCHE |
| EP1450182 |
substrat pour la lithographie dans l'ultraviolet extrême et procédé pour sa fabrication |
| EP1450206 |
Masque et son procédé de fabrication et d'exposition, et procédé de fabrication d'un dispositif l'utilisant |
| EP1447711 |
Masque photolithographique |
| EP1439420 |
Procédé de correction de l'effet de proximité optique assisté par ordinateur pour masques pour trous de contact |
| FR2849529 |
MASQUE STENCIL AVEC MOYEN D'EMPECHEMENT D'ACCUMULATION DE CHARGES ET PROCEDE POUR SA FABRICATION |
| WO2004053592 |
MANIPULATIONS DE RETICULE |
| WO2004051370 |
EBAUCHE DE MASQUE DE TRANSFERT, MASQUE DE TRANSFERT, ET PROCEDE DE TRANSFERT UTILISANT LE MASQUE |
| EP1429159 |
PRODUCTION DE DONNEES DE MOTIF DEPOURVUES DE TOUT CHEVAUCHEMENT OU DE TOUTE SEPARATION EXCESSIVE DES MOTIFS DE POINTS ADJACENTS LES UNS AUX AUTRES |
| WO2004044968 |
DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCEDE D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIFS A SEMI–CONDUCTEUR |
| EP1421444 |
CIRCUIT INTEGRE DOTE D'UN MASQUE REFLECHISSANT |
| EP1422562 |
RETICULE ET PROCEDE DE MESURE DE CARACTERISTIQUES OPTIQUES |
| EP1414722 |
PROTECTION ET TRANSPORT DE RETICULE |
| EP1415197 |
CORRECTION DE PROXIMITE OPTIQUE DESTINEE A DES MASQUES PHOTOLITHOGRAPHIQUES A DEPHASAGE |
| WO2004031855 |
ENSEMBLE MEMBRANE ET RETICULE–PELLICULE A ESPACE PELLICULE– RETICULE EPURE |
| WO2004032204 |
PROCEDE DE PRODUCTION DE CIRCUIT INTEGRE AU MOYEN D'UN PHOTOMASQUE A DOUBLE REVETEMENT ANTIREFLECTEUR |
| EP1401923 |
COMPOSITIONS DE LIQUIDE POLYMERE CONVENANT POUR DES UTILISATIONS D'ULTRAVIOLET ET D'ULTRAVIOLET EXTREME |
| EP1403663 |
ELEMENT OPTIQUE, SON PROCEDE DE PRODUCTION ET ALIGNEUR DE PROJECTION |
| EP1399781 |
REPARATION DE DEFAUTS D'AMPLITUDE DANS DES REVETEMENTS MULTICOUCHE |
| WO2004023534 |
PROCEDE D'ALIGNEMENT, SUBSTRAT D'ALIGNEMENT, PROCEDE DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT D'ALIGNEMENT, PROCEDE D'EXPOSITION, SYSTEME D'EXPOSITION ET PROCEDE DE PRODUCTION D'UN MASQUE |
