N° de brevet Brevet
WO2008011497 DIFFUSEURS OPTIQUES, PHOTOMASQUES ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
EP1875309 PROCEDE DE SURVEILLANCE D'UN RETICULE
EP1861750 COMPOSITIONS DE PRETRAITEMENT
EP1856576 IMPLANTS MEDICAUX
EP1856575 FUSION DE FONCTIONS D'AIDE DE SOUS–RESOLUTION DE MASQUE PHOTOLITHOGRAPHIQUE
EP1849181 OUTILS DE REPLICATION ET APPAREIL ET PROCEDES DE FABRICATION CORRESPONDANTS
WO2007117319 MASQUE DE DEPHASAGE AVEC ACCESSOIRE DE CALIBRAGE ET PROCEDE ASSOCIE
EP1828841 MASQUE D'AJUSTAGE EN TROIS TONS PERMETTANT D'ALTERNER LA PHOTOLITHOGRAPHIE A DEPHASAGE
EP1814955 FILM DE RÉSINE DURCI POUR CARTE À CIRCUIT IMPRIMÉ SOUPLE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
WO2007081390 STRUCTURES MICRO–RÉSONANTES À COMMUTATION UTILISANT MOINS UN ÉLÉMENT DIRECTEUR
EP1779199 DECAPANT AQUEUX POUR PERLE DE BORD
WO2007044630 SYSTÈMES, MASQUES, ET PROCÉDÉS DE FABRICATION DE MASQUES
EP1774542 PROCEDE DE GRAVURE AU PLASMA D'UNE RESERVE BICOUCHE
WO2007038134 METHODE D'ALIGNEMENT D'UN MOTIF GENERE PAR UN FAISCEAU DE PARTICULES SUR UN MOTIF SITUE SUR UN SUBSTRAT COMPRENANT DES MOTIFS PREFORMES
EP1761457 IMPRESSION DE MICRO– OU DE NANO–STRUCTURES TRIDIMENSIONNELLES SUPPORTEES ET AUTO–PORTEUSES
EP1756627 MATRICE DE LENTILLES ET PROCEDE DE FABRICATION DE CETTE MATRICE
WO2007021654 APPAREIL DE REVELATION DE RESINE PHOTOSENSIBLE ET PROCEDE D'EXPLOITATION DE LADITE RESINE PHOTOSENSIBLE
EP1753609 MASQUE POUR LITHOGRAPHIE AUX ULTRAVIOLETS EXTREMES (EUVL) A DIFFUSION DE LA LUMIERE
WO2007019269 SYSTEME ET PROCEDE PERMETTANT DE CREER UN MODELE DE FOCALISATION–EXPOSITION D'UN PROCESSUS LITHOGRAPHIQUE
EP1741003 FILMS OPTIQUES ET PROCEDES DE FABRICATION DE CES DERNIERS
EP1730477 MASQUE A DECALAGE DE PHASE ATTENUE INTEGRE A TRANSMISSION REGLABLE
WO2006116223 LAMINE PHOTOSENSIBLE
WO2006112887 PROCEDES ET COMPOSITIONS DESTINES A LA FORMATION DE FILMS COPOLYMERES A MOTIF APERIODIQUE
WO2006113146 SYSTEMES ET PROCEDES DESTINES A MODIFIER DES PROPRIETES OPTIQUES D'UN RETICULE
EP1711861 MATERIAUX STRUCTURES ET PROCEDE S ASSOCIES
WO2006097916 MASQUE OPTIQUE POUR PROFONDEUR DE CHAMP ETENDU TOUT OPTIQUE POUR SYSTEMES D'IMAGERIE SOUS ECLAIRAGE INCOHERENT
EP1695143 REMPLISSAGE D'UNE ZONE D'UNE IMAGE IMPRIMEE SUR UN PRODUIT AU MOYEN D'UN LASER
WO2006081534 COMPOSITIONS ET PROCEDE DE DEVELOPPEMENT D'IMAGE DE PHOTORESINES CHIMIQUEMENT AMPLIFIEES CLASSIQUES
EP1685443 EFFACEMENT DE LUMINOPHORE A PERSISTANCE
WO2006075985 MODULATEURS D'INTENSITE OPTIQUE A DEUX LONGUEURS D'ONDE UTILISANT DES MATERIAUX A ABSORPTIONS SATURABLES
EP1671186 PROCEDE D'ENROBAGE AU MOYEN DE PHOTORESINE A DES FINS DE MICROLITHOGRAPHIE
EP1664923 COMPOSITION DE RESINE NEGATIVE CONTENANT UN POLYMERE A BASE DE FLUOROSULFONAMIDE
EP1664936 FORMATION DE CARACTERISTIQUES DE PROFONDEUR PARTIELLE DANS UN FILM POLYMERIQUE
WO2006054791 FILM DE RÉSINE DURCI POUR CARTE À CIRCUIT IMPRIMÉ SOUPLE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
EP1658622 PROCEDE ET SYSTEME DE SECHAGE D'UN SUBSTRAT
EP1649323 PROCEDE PERMETTANT DE CORRIGER DES VARIATIONS DIMENSIONNELLES CRITIQUES DANS UN PHOTOMASQUE
EP1636655 PROCEDE DE CONCEPTION D'UN RETICULE ET DE FORMATION D'UN DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR A L'AIDE DE CE DERNIER
EP1634122 PROCEDE D'EVALUATION DES EFFETS DE PROCESSUS D'EXPOSITIONS MULTIPLES EN LITHOGRAPHIE
WO2006020194 PROCEDE, SYSTEME ET GABARIT D'ALIGNEMENT D'EMPREINTES
EP1618436 DETERMINATION DU CENTRE DE FOCALISATION PAR ANALYSE DE LA VARIABILITE DE PARAMETRES
EP1612834 Procédé pour contrôler la correction de l'effet de proximité
EP1612835 Méthode pour réduire l'effet de fogging
EP1604247 PROCEDE DE MODELISATION D'UNE PHOTORESINE SUR UNE TRANCHE A L'AIDE D'UN MASQUE A DECALAGE DE PHASE ATTENUE
WO2005115743 MASQUE POUR LITHOGRAPHIE AUX ULTRAVIOLETS EXTREMES (EUVL) A DIFFUSION DE LA LUMIERE
EP1602007 PROCEDE DE MODELISATION D'UNE PHOTORESINE SUR UNE TRANCHE A L'AIDE D'UN MASQUE REFLECHISSANT AVEC UN REVETEMENT ANTIREFLECHISSANT MULTICOUCHE
WO2005113422 IMPRESSION DE MICRO– OU DE NANO–STRUCTURES TRIDIMENSIONNELLES SUPPORTEES ET AUTO–PORTEUSES
EP1594004 Matériau pour un film barrière et méthode pour la formation de motifs en utilisant ce matériau
EP1588221 PROCEDE PERMETTANT DE FORMER DES MOTIFS DE COUCHE DE RESINE PHOTOSENSIBLE SUR UNE PLAQUETTE A L'AIDE D'UN MASQUE DE TRANSMISSION DOTE D'UNE COUCHE DE CARBONE
EP1586008 MASQUES PHOTOGRAPHIQUES A DEMI–TEINTE BINAIRE, DISPOSITIFS TRIDIMENSIONNELS MICROSCOPIQUES ET PROCEDES DE FABRICATION ASSOCIES
WO2005092025 PROCEDES ET SYSTEMES DE MESURE D'UNE CARACTERISTIQUE D'UN SUBSTRAT OU DE PREPARATION D'UN SUBSTRAT POUR L'ANALYSE
EP1553617 DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEURS
EP1532484 IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE AVEC LUMIERE POLARISEE
WO2005036261 COMPOSITION DE RESINE NEGATIVE CONTENANT UN POLYMERE A BASE DE FLUOROSULFONAMIDE
EP1519226 Masque stencil, procédé de production de ce masque, appareil d'exposition, procédé d'exposition et procédé de fabrication d'un dispositif electronique
EP1517178 Procédé d'élaboration de sonde d'acide nucléique peptidique au moyen d'un monomère générateur d'acide par exposition à la lumière
WO2005024325 PROCEDE ET SYSTEME DE SECHAGE D'UN SUBSTRAT
EP1506328 FABRICATION D'UN DISPOSITIF DE DETECTION DE MOLECULE BIOLOGIQUE A RESOLUTION ELEVEE AVEC CONDUCTEURS ELECTRIQUES EN OR
WO2005008850 LOCALISATION DE DEFAUTS AU LASER TEMPORELLE ET SPATIALE SELECTIVE
WO2005001901 MASQUE DUR POUVANT ETRE DEVELOPPE PAR VOIE HUMIDE CONJOINTEMENT A UNE PHOTORESINE MINCE POUR MICRO–PHOTOLITHOGRAPHIE
WO2004114382 DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEURS
EP1483628 MASQUE A DEPHASAGE COMPLET DANS PROCEDE DE DAMASQUINAGE
EP1481973 SELS D'ONIUM COMPORTANT DES HETEROCYCLES
EP1481283 PROCEDE DE RETRECISSEMENT DE MOTIFS LITHOGRAPHIQUES ET ARTICLES CORRESPONDANTS
EP1482374 Méthode de génération de données de distorsion d'un masque, méthode d'exposition et méthode de fabrication d'un dispositif semiconducteur
WO2004092832 DETERMINATION DU CENTRE DE FOCALISATION PAR ANALYSE DE LA VARIABILITE DE PARAMETRES
EP1470447 REGLAGE DE DIMENSIONS CRITIQUES EN PHOTOLITHOGRAPHIE A L'AIDE DE MESURE DE MASQUES
EP1465009 Masques photolithographiques avec motifs auxiliaires sous forme de chenaux
EP1459110 MASQUE COMPOSITE CONCU POUR PRODUIRE UN DIFFUSEUR
WO2004079779 PROCEDE DE MODELISATION D'UNE PHOTORESINE SUR UNE TRANCHE A L'AIDE D'UN MASQUE A DECALAGE DE PHASE ATTENUE
WO2004079780 PROCEDE DE MODELISATION D'UNE PHOTORESINE SUR UNE TRANCHE A L'AIDE D'UN MASQUE REFLECHISSANT AVEC UN REVETEMENT ANTIREFLECHISSANT MULTICOUCHE
EP1457823 Elément photosensible pour des plaques d'impression flexographiques
WO2004077154 IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE AVEC LUMIERE POLARISEE
EP1447711 Masque photolithographique
FR2849529 MASQUE STENCIL AVEC MOYEN D'EMPECHEMENT D'ACCUMULATION DE CHARGES ET PROCEDE POUR SA FABRICATION
EP1421162 COMPOSITIONS DE RETRAIT D'IONS METALLIQUES DE SOLUTIONS AQUEUSES ET LEURS PROCEDES D'UTILISATION
EP1422192 Procéde de fabrication d'un moule pour le coulage par injection d'une pièce microstructurée à deux niveaux
WO2004042344 FABRICATION D'UN DISPOSITIF DE DETECTION DE MOLECULE BIOLOGIQUE A RESOLUTION ELEVEE AVEC CONDUCTEURS ELECTRIQUES EN OR
EP1415197 CORRECTION DE PROXIMITE OPTIQUE DESTINEE A DES MASQUES PHOTOLITHOGRAPHIQUES A DEPHASAGE
EP1414072 Capteur d'image avec de microlentilles plus grands dans des régions périphériques
EP1388890 PROCEDE SERVANT A FABRIQUER UN COMPOSANT ELECTRONIQUE
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