| N° de brevet |
Brevet |
| WO2008017320 |
PROCÉDÉS DE FABRICATION D'UN CRISTAL MASSIF DOPÉ AU III–N ET D'UN SUBSTRAT LIBRE DOPÉ AU III–N ET CRISTAL MASSIF DOPÉ AU III–N ET SUBSTRAT LIBRE DOPÉ AU III–N |
| EP1885917 |
DISPOSITIF PERMETTANT D'INTRODUIRE DES GAZ REACTIONNELS DANS UNE CHAMBRE DE REACTION ET REACTEUR EPITAXIAL FAISANT APPEL AU DISPOSITIF |
| EP1882757 |
Equipement de dépôt de vapeur organique métallique |
| EP1866465 |
SYSTEME DE REACTION DESTINE A CREER UNE COUCHE MINCE |
| WO2007133358 |
STRUCTURES DE COUCHES TAMPON SEMI–CONDUCTRICES |
| WO2007117894 |
FOUR DE TRAITEMENT THERMIQUE, SYSTÈME DE DISTRIBUTION DE GAZ ASSOCIÉ ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS DE DISTRIBUTION D'UN GAZ DE TRAITEMENT |
| EP1782457 |
PROCEDE DE CROISSANCE D'UN CRISTAL D'UN SEMICONDUCTEUR A BASE DE NITRURE |
| EP1779411 |
TECHNIQUE DE DÉPOSITION POUR LA PRODUCTION DE MATÉRIAU SEMICONDUCTEUS COMPOSITES DE HAUTE QUALITÉ |
| EP1774056 |
PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES CONTENANT DU SILICIUM ET DU GERMANIUM |
| WO2006125777 |
DISPOSITIF PERMETTANT D'INTRODUIRE DES GAZ REACTIONNELS DANS UNE CHAMBRE DE REACTION ET REACTEUR EPITAXIAL FAISANT APPEL AU DISPOSITIF |
| EP1718784 |
SYSTEME D'ADMISSION POUR REACTEUR MOCVD |
| EP1703550 |
DISPOSITIF DE CROISSANCE EN PHASE VAPEUR ET PROCEDE DE PRODUCTION DE TRANCHE EPITAXIALE |
| WO2006081023 |
PROCEDE ET APPAREIL DE DEPOT MONOCOUCHE (MLD) |
| WO2006078666 |
SYSTEME DE REACTION DESTINE A CREER UNE COUCHE MINCE |
| EP1665339 |
CROISSANCE DE CRISTAL DE PURETE ELEVEE |
| EP1654754 |
DISPOSITIF D'ALIMENTATION, EN PARTICULIER POUR UN REACTEUR DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR UTILISE POUR LA CROISSANCE D'UNE COUCHE EPITAXIALE |
| WO2006025593 |
PROCEDE DE CROISSANCE D'UN CRISTAL D'UN SEMICONDUCTEUR A BASE DE NITRURE |
| WO2006005637 |
PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES CONTENANT DU SILICIUM ET DU GERMANIUM |
| EP1613792 |
PROCEDES ET APPAREIL POUR PERFECTIONNEMENTS AU TEMPS DE CYCLE POUR DEPOT EN COUCHES ATOMIQUES |
| EP1607498 |
PROCEDE PERMETTANT DE FORMER UN FILM COUCHE D'OXYDE, FILM COUCHE D'OXYDE ET STRUCTURE FILM |
| EP1593755 |
Appareillage et procédé de production de films |
| WO2005093136 |
SUPPORT ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT SEMI–CONDUCTEUR |
| WO2005080631 |
SYSTEME D'ADMISSION POUR REACTEUR MOCVD |
| WO2005081283 |
SYSTÈME SUPPORT DE SUBSTRAT POUR DÉPÔT RÉDUIT D'AUTODOPAGE ET ENVERS |
| EP1564795 |
Procédé de croissance de semiconducteurs composés et procédé de fabrication de dispositifs à semiconducteur composé |
| WO2005071137 |
CONCEPTION DE KIT DE TRAITEMENT POUR CHAMBRE DE DEPOT |
| WO2005067017 |
VAPORISATEUR POUR CVD, SYSTEME CVD A VAPORISATION DE SOLUTION ET PROCEDE DE VAPORISATION POUR CVD |
| WO2005059981 |
DISPOSITIF DE CROISSANCE EN PHASE VAPEUR ET PROCEDE DE PRODUCTION DE TRANCHE EPITAXIALE |
| WO2005052998 |
POMMEAU DE DISTRIBUTION DE GAZ COMPORTANT DES OUVERTURES D'EVACUATION |
| WO2005028702 |
SYSTEME DE DISTRIBUTION DE PRECURSEUR |
| WO2005021842 |
CROISSANCE DE CRISTAL DE PURETE ELEVEE |
| WO2005019496 |
ECOULEMENT DE POUSSEE ALKYLE POUR REACTEURS A DISQUE ROTATIF A ECOULEMENT VERTICAL |
| WO2005017985 |
DISPOSITIF D'ALIMENTATION, EN PARTICULIER POUR UN REACTEUR DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR UTILISE POUR LA CROISSANCE D'UNE COUCHE EPITAXIALE |
| WO2005010227 |
REACTEUR DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR |
| WO2005003406 |
PROCEDE ET DISPOSITIF AMELIORES POUR LE DEPOT PAR COUCHE ATOMIQUE (ALD) |
| EP1481117 |
PROCEDE ET DISPOSITIF POUR DEPOSER DES COUCHES DE SEMI–CONDUCTEUR |
| WO2004083485 |
PROCEDES ET APPAREIL POUR PERFECTIONNEMENTS AU TEMPS DE CYCLE POUR DEPOT EN COUCHES ATOMIQUES |
| WO2004081265 |
PROCEDE PERMETTANT DE FORMER UN FILM COUCHE D'OXYDE, FILM COUCHE D'OXYDE ET STRUCTURE FILM |
| EP1440180 |
PROCEDE ET DISPOSITIF POUR DEPOSER EN PARTICULIER DES COUCHES CRISTALLINES NOTAMMENT SUR DES SUBSTRATS CRISTALLINS |
| EP1432844 |
APPAREIL POUR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR INVERSE |
| WO2004035878 |
REACTEUR DE VPE A HYDRURE |
| WO2004024296 |
FILTRE A PARTICULES A HAUTE CONDUCTIVITE |
| WO2004024981 |
SYSTEME DE DISTRIBUTION DE MATERIAUX PRECURSEURS POUR DEPOT EN COUCHES ATOMIQUES |
| EP1397528 |
DISPOSITIF DE DEPOT DE COUCHES, EN PARTICULIER CRISTALLINES, SUR UN OU PLUSIEURS SUBSTRATS, EN PARTICULIER EGALEMENT CRISTALLINS |
| EP1392885 |
FERMETURE D'ORIFICES D'ENTREE DE GAZ POUR PLAQUES DE SOLES DE FOURS DE DEPOT CHIMIQUE OU D'INFILTRATION EN PHASE VAPEUR |
| EP1390561 |
PROCEDE ET DISPOSITIF DE DEPOSITION DE COUCHES |
| WO2004011693 |
PROCEDES DE DEPOT DE COUCHES ATOMIQUES |
| EP1386981 |
Appareil pour la fabrication de couches minces |
| WO2004004927 |
NANOSTRUCTURES ET LEURS PROCEDES DE FABRICATION |
| WO03104524 |
DISPOSITIF ET PROCEDE DE TRAITEMENT |
| WO03085711 |
PROCEDE DE CROISSANCE EN PHASE VAPEUR POUR SEMICONDUCTEUR A COMPOSES III–V CONTENANT DE L'AL, ET PROCEDE ET DISPOSITIF DESTINES A LA PRODUCTION D'UN SEMICONDUCTEUR A COMPOSES III–V CONTENANT DE L'AL |
| WO03071011 |
PROCEDE ET DISPOSITIF POUR DEPOSER DES COUCHES DE SEMI–CONDUCTEUR |
| WO03063216 |
PROCEDE DE FORMATION DE FILM MINCE PAR DEPOT DE COUCHE ATOMIQUE |
| EP1325177 |
PROCEDE POUR DEPOSER NOTAMMENT DES COUCHES CRISTALLINES, DISPOSITIF D'ENTREE DE GAZ ET DISPOSITIF POUR METTRE LEDIT PROCEDE EN OEUVRE |
| WO03054256 |
PROCEDE ET DISPOSITIF POUR DEPOSER DES COUCHES CRISTALLINES SUR DES SUBSTRATS CRISTALLINS |
| EP1322801 |
ORGANE D'ENTREE DE GAZ DESTINE A UN PROCEDE ET A UN DISPOSITIF DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR |
| EP1322797 |
PROCEDE DE DEVELOPPEMENT D'UN FILM FIN SUR UN SUBSTRAT |
| WO03048430 |
DISPOSITIF ET PROCEDE POUR PRODUIRE, ENLEVER OU TRAITER DES COUCHES SUR UN SUBSTRAT |
| EP1315853 |
DISPOSITIF DE DEPOSITION, NOTAMMENT DE COUCHES CRISTALLINES SUR, NOTAMMENT, DES SUBSTRATS CRISTALLINS |
| EP1313897 |
DISPOSITIF DE DEPOSITION, NOTAMMENT DE COUCHES CRISTALLINES SUR, NOTAMMENT, DES SUBSTRATS CRISTALLINS |
| WO03038144 |
PROCEDE ET DISPOSITIF POUR DEPOSER EN PARTICULIER DES COUCHES CRISTALLINES NOTAMMENT SUR DES SUBSTRATS CRISTALLINS |
| WO03029516 |
APPAREIL POUR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR INVERSE |
| WO03008675 |
CHAMBRE DE TRAITEMENT DOTEE D'UN FOND AYANT DIFFERENTES SECTIONS ENTRAINEES EN ROTATION ET PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES DANS CETTE CHAMBRE DE TRAITEMENT |
| EP1271607 |
Appareil et procédé de dépot chimique en phase vapeur |
| WO02099160 |
FERMETURE D'ORIFICES D'ENTREE DE GAZ POUR PLAQUES DE SOLES DE FOURS DE DEPOT CHIMIQUE OU D'INFILTRATION EN PHASE VAPEUR |
| WO02092876 |
PROCEDE ET DISPOSITIF DE DEPOSITION DE COUCHES |
| EP1258541 |
Dispositif d'alimentation en gaz de traitement dans un système de CVD |
| WO02083978 |
DISPOSITIF ET PROCEDE POUR DEPOSER EN PHASE GAZEUSE DES COUCHES NOTAMMENT CRISTALLINES SUR DES SUBSTRATS NOTAMMENT CRISTALLINS |
| WO02078068 |
PROCEDE DE CROISSANCE DE CRISTAL DE SEMI–CONDUCTEUR COMPOSE PAR EPITAXIE EN PHASE VAPEUR ORGANO–METALLIQUE |
| EP1236811 |
Dispositif et procédé de dépôt chimique en phase vapeur |
| WO02052069 |
PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES NOTAMMENT CRISTALLINES |
| EP1220305 |
Procédé de dépôt chimique en phase vapeur |
| WO0244445 |
PROCEDE DE SEPARATION DE COUCHES EN PARTICULIER CRISTALLINES ET DISPOSITIF POUR LA MISE EN OEUVRE DUDIT PROCEDE |
| WO0233143 |
REACTEUR CVD A TOURBILLON |
| EP1197994 |
APPAREIL POUR LA FABRICATION D'UN DISPOSITIF A SEMICONDUCTEUR |
| EP1196645 |
MOYENS DE SCELLEMENT ET UTILISATION ASSOCIEE DANS UN REACTEUR DE DEPOT |
| WO0227078 |
PROCEDE POUR DEPOSER NOTAMMENT DES COUCHES CRISTALLINES, DISPOSITIF D'ENTREE DE GAZ ET DISPOSITIF POUR METTRE LEDIT PROCEDE EN OEUVRE |
| WO0224985 |
ORGANE D'ENTREE DE GAZ DESTINE A UN PROCEDE ET A UN DISPOSITIF DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR |
| EP1190122 |
PROCEDE ET DISPOSITIF PERMETTANT DE GENERER UNE CROISSANCE EPITAXIALE D'UN MATERIAU SUR UN SUBSTRAT |
| EP1190120 |
SYSTEME D'INJECTION DE GAZ COMPOSE ET PROCEDES |
