N° de brevet Brevet
WO2008004657 FILM MINCE D'OXYDE DE ZINC DE TYPE p ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE CELUI–CI
EP1872383 SYSTEME ET PROCEDE DESTINES A UNE EPITAXIE EN PHASE VAPEUR AMELIOREE EN PLASMA DE FAIBLE ENERGIE
WO2007148802 PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CRISTAL SEMICONDUCTEUR D'OXYDE DE ZINC
WO2007119433 COUCHE DE NITRURE DE GROUPE III–V ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
WO2007018216 CRISTAL DE ZnO, PROCÉDÉ DE CROISSANCE DU CRISTAL, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT ÉMETTEUR DE LUMIÈRE
WO2006038567 PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM DE Ga2O3 DE TYPE P ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM DE Ga2O3 DE TYPE JONCTION PN
WO2006030884 PROCEDE DE PRODUCTION DE COUCHE MINCE
WO2006013826 NANOPLAQUES DE COMPOSÉ À COUCHES DE Bi, MATRICE DE CELLES–CI, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLES–CI ET APPAREIL UTILISANT CELLES–CI
WO2005078780 MÉTHODE DE DÉPOSITION EN PHASE VAPEUR
EP1532288 SYSTEME ET PROCEDES DE DEPOT PAR FAISCEAU HYBRIDE POUR FABRICATION DE COUCHES MINCES DE ZNO ET D'OXYDE DE METAL, DE COUCHES MINCES DE ZNO DE TYPE P, ET DE DISPOSITIFS SEMI–CONDUCTEURS DE COMPOSES II–VI A BASE DE ZNO
EP1436448 CROISSANCE EPITAXIALE A FAIBLE TEMPERATURE DE SEMI–CONDUCTEURS QUATERNAIRES A GRANDE LARGEUR DE BANDE INTERDITE
WO2004020686 SYSTEME ET PROCEDES DE DEPOT PAR FAISCEAU HYBRIDE POUR FABRICATION DE COUCHES MINCES DE ZNO ET D'OXYDE DE METAL, DE COUCHES MINCES DE ZNO DE TYPE P, ET DE DISPOSITIFS SEMI–CONDUCTEURS DE COMPOSES II–VI A BASE DE ZNO
WO03033781 CROISSANCE EPITAXIALE A FAIBLE TEMPERATURE DE SEMI–CONDUCTEURS QUATERNAIRES A GRANDE LARGEUR DE BANDE INTERDITE
EP1127961 Recipient double en nitrure de bore et mé thode poiur sa fabrication
EP1077764 PROCEDE DE PREPARATION DE BIBLIOTHEQUES AU MOYEN D'UN APPAREIL D'EPITAXIE PAR FAISCEAUX MOLECULAIRES COMBINATOIRE (COMBE)
WO0048725 PROCEDE DE PREPARATION DE BIBLIOTHEQUES AU MOYEN D'UN APPAREIL D'EPITAXIE PAR FAISCEAUX MOLECULAIRES COMBINATOIRE (COMBE)
EP0922014 CREUSET MONOCOQUE ET SOURCE D'EFFUSION DANS LAQUELLE LEDIT CREUSET EST UTILISE
WO9925907 PROCEDE PERMETTANT DE FORMER UNE COUCHE TAMPON PAR EPITAXIE PAR FAISCEAUX MOLECULAIRES
EP0851042 Creuset en nitrure de bore pyrolytique pour utilisation dans des procédés d'épitaxie par faiseaux moléculaires
WO9808780 CREUSET MONOCOQUE ET SOURCE D'EFFUSION DANS LAQUELLE LEDIT CREUSET EST UTILISE
EP0826131 CREUSET MONOBLOC
EP0770713 Appareillage pour fabriquer un dispositif semi–conducteur utilisant une source de matériau à l'état solide
EP0770700 Procédé de fabrication d'une couche mince d'oxyde
WO9635091 CREUSET MONOBLOC
EP0712818 Article pour l'utilisation sous vide poussée à température élevée
EP0710992 Couche en oxyde de métal supra–conducteur et procédé de fabrication
EP0675550 Couche d'oxyde transparente à la lumière, conductrice d'électricité, et ses procédés de fabrication.
WO9516061 PROCEDE DE CROISSANCE D'UN FILM EPITAXIAL SUR UNE SURFACE D'UN OXYDE ET PRODUIT
EP0655514 Dispositif pour déposer des couches minces et procédé pour fabriquer des multicouches incluant des couches minces en oxyde supraconducteur.
EP0652301 Procédé pour la production de revêtements diamantins et articles revêtus ainsi fabriqués.
EP0643426 Méthode de fabrication d'une composition d'alliage semi–conducteur précise à partir de variables d'entrées sous conditions d'incorporation non linéaires.
EP0637059 Croissance directe MOMBE et MOVPE de matériaux II–VI sur du silicone.
EP0627989 FILMS SUPRACONDUCTEURS HAUTE TEMPERATURE A AXE A PRESENTANT UN ALIGNEMENT PREFERENTIEL DANS LE PLAN.
EP0590560 Couche mince supraconductrice et procédé pour sa fabrication.
EP0584562 Procédé de dépot de couche mince en oxyde supraconducteur et dispositif de fabrication.
EP0573707 Appareillage pour l'épitaxie par des faisceaux moléculaires avec sources à gaz.
EP0567159 Méthode pour la fabrication d'un film mince supraconducteur en oxyde.
EP0544437 Méthode de dépôt sélectif de couches contenant de l'aluminium.
EP0535293 Procédé de fabrication d'un dispositif semiconducteur compositionnel.
EP0531354 PROCEDE DE MESURE DE L'EPAISSEUR ET DE L'INDICE DE REFRACTION D'UNE COUCHE MINCE SUR UN SUBSTRAT ET DISPOSITIF POUR L'EXECUTION DE CE PROCEDE.
EP0532104 Couches épitaxiales de composé semi–conducteur II–VI comportant peu de défauts; méthode de fabrication et dispositifs comportant ces couches.
WO9222426 FILMS SUPRACONDUCTEURS HAUTE TEMPERATURE A AXE A PRESENTANT UN ALIGNEMENT PREFERENTIEL DANS LE PLAN
WO9216966 PROCEDE DE PREPARATION ET DE DOPAGE DE COUCHES MINCES DE NITRURE DE GALLIUM MONOCRISTALLIN TRES ISOLANT
EP0472159 Couche supraconductrice alignée et procédé quasi–épitaxial pour la faire croître.
EP0472316 Assemblage de plaque à multi canaux pour l'épitaxie de gas par des faisceaux moléculaires.
EP0462600 Procédé pour la fabrication d'une couche mince supraconductrice.
WO9119025 PROCEDE DE MESURE DE L'EPAISSEUR ET DE L'INDICE DE REFRACTION D'UNE COUCHE MINCE SUR UN SUBSTRAT ET DISPOSITIF POUR L'EXECUTION DE CE PROCEDE
WO9119026 CROISSANCE DE FILMS MINCES DE PEROVSKITE ORIENTEE SUR UN AXE A, B
EP0460598 Composés organiques pour l'utilisation dans le domaine de l'électronique.
EP0451782 Méthode pour la préparation d'un film supraconducteur en oxyde.
EP0451641 Procédé pour la fabrication d'un film mince d'un oxyde supraconducteur à haute température par épitaxie à faisceau moléculaire.
EP0451502 Epitaxie métal–métal sur substrats.
EP0444698 Procédé et dispositif pour la fabrication de couches minces d'oxyde supraconducteur.
WO9109994 PROCEDE DE FORMATION D'UNE COUCHE DE MATERIAU
WO9109995 PROCEDE POUR LE DEPOT DE COUCHES MINCES SUR DES SOLIDES
WO9109161 PROCEDE DE FORMATION DE PELLICULES EPITAXIALES
EP0432820 Depôt par laser de films cristallins de nitrure de bore.
WO9008210 PROCEDE ET APPAREIL D'EPITAXIE PAR FAISCEAU MOLECULAIRE A L'AIDE DE PLASMA/RAYONNEMENT
EP0363554 Procédé et appareil de fabrication de couches épitaxiales et/ou fortement texturées pauvres en phases étrangères de supraconducteurs d'oxyde à haute température sur des substrats.
EP0352472 Hétéroépitaxie de matériaux semiconducteurs à résaux inégaux.
EP0348085 Appareil de dépôt sous vide.
EP0344352 Méthode de fabrication des supraconducteurs artificiels à température critique élevée et structure en couches.
EP0334682 Transistor à hétérostructure comprenant une couche de germanium sur de l'arséniure de gallium et méthode pour sa fabrication utilisant une croissance épitaxiale par jet moléculaire.
EP0328202 Procédé pour la fabrication d'une structure à îlots quantiques.
EP0325275 Laser à semi–conducteur pour l'émission de lumière avec des couches cristallines à (AlxGa1–x)0.5In0.5P et procédé pour la croissance d'un cristal à (AlxGa1–x)0,5In0.5P.
EP0321909 Procédé et appareillage pour l'épitaxie par couches monoatomiques.
FR2621171 PROCEDE PERMETTANT DE FAIRE CROITRE DES FILMS DE GAAS SUR DES SUBSTRATS DE SI OU DE GAAS
EP0298080 PROCEDE ET APPAREIL DE SURVEILLANCE DE LA CROISSANCE DE COUCHES SUPERFICIELLES.
EP0286274 Source de réactifs pour épitaxie par jet moléculaire.
EP0252536 Méthode de fabrication d'une microbande optique pour des éléments optiques non–réciproques.
EP0206603 Méthode de croissance de cristaux
EP0170800 Assemblage de chauffage dans un four pour épitaxie par jet moléculaire
FR2562099 CELLULE D'EVAPORATION D'UN COMPOSE LIQUIDE ADAPTEE A L'EPITAXIE PAR JETS MOLECULAIRES
EP0143792 PROCEDE DE FORMATION D'UN FLUX D'ATOMES ET SON UTILISATION DANS UN PROCEDE ET UN DISPOSITIF D'EPITAXIE PAR JETS ATOMIQUES (E.J.A.).
EP0132323 Pellicules de semi–conducteur par pulvérisation ionique à base de phosphore à chaîne.
EP0127838 Sources de silicium pour dépôt épitaxial par faisceau moléculaire
EP0077405 PROCEDE ET DISPOSITIF PERMETTANT DE FABRIQUER UN PRODUIT EN UTILISANT UNE TECHNIQUE HOLOGRAPHIQUE
FR2449021 ENSEMBLE D'INSONORISATION PERFECTIONNE POUR VEHICULES A CHENILLES
FR2441582 PROCEDE POUR PREPARER DES CIBLES DE VAPORISATION CATHODIQUE DE GRANDES DIMENSIONS ET DE COMPOSITION HOMOGENE EN TELLURURE DE MERCURE ET DE CADMIUM
FR2395326 PROCEDE POUR LA FABRICATION DE COUCHES METALLIQUES EN GROS CRISTAUX OU MONOCRISTALLINES
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