N° de brevet Brevet
FR2891280 FORMATION DE SILICIUM POREUX DANS UNE PLAQUETTE DE SILICIUM
EP1690291 PROCEDE DE GRAVURE ELECTROCHIMIQUE PERMETTANT L'ELIMINATION SELECTIVE DE PHASES ETRANGERES A LA SURFACE D'UN SEMICONDUCTEUR DE CHALCOPYRITE SULFURE
EP1525609 DISPOSITIF DE GRAVURE DE TRANCHES SEMI–CONDUCTRICES A GRANDES SURFACES
EP1456868 SYSTEME ET PROCEDE ELECTROCHIMIQUE DE NETTOYAGE D'UN CHANT ET D'UN CHANFREIN
EP1444722 PROCEDE ET SYSTEME PERMETTANT DES CONTACTS ELECTRIQUES POUR DES PROCEDES DE TRAITEMENT ELECTROLYTIQUE
EP1419523 STRUCTURES FACTICES POUR REDUIRE UN EVIDEMENT METALLIQUE DANS UN PROCESSUS DE POLISSAGE ELECTROLYTIQUE
WO2004017384 DISPOSITIF DE GRAVURE DE TRANCHES SEMI–CONDUCTRICES A GRANDES SURFACES
EP1391541 Procédé pour créer des évidements à la surface d' une pièce, en particulier pour la production de micromoules
EP1341211 Procédé et dispositif pour le traitement chimique induit par la lumière d'une pièce à travailler
WO03060963 SYSTEME ET PROCEDE ELECTROCHIMIQUE DE NETTOYAGE D'UN CHANT ET D'UN CHANFREIN
WO03041147 OXYDANT ANODIQUE, PROCEDE D'OXYDATION ANODIQUE
WO03036693 PROCEDE ET SYSTEME PERMETTANT DES CONTACTS ELECTRIQUES POUR DES PROCEDES DE TRAITEMENT ELECTROLYTIQUE
WO03019641 STRUCTURES FACTICES POUR REDUIRE UN EVIDEMENT METALLIQUE DANS UN PROCESSUS DE POLISSAGE ELECTROLYTIQUE
EP1264202 DISPOSITIFS D'EMISSION STIMULES PAR DES NANOPARTICULES DE SILICIUM
WO02088431 ENSEMBLE ANODE ET PROCEDE D'APPORT D'ELECTROLYTE A LA SURFACE D'UN SUBSTRAT PLANAIRE
EP1232116 NANOPARTICULE DE SILICIUM ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
EP1220307 PROCEDE ET APPAREIL D'ATTAQUE ELECTROCHIMIQUE PAR RAYONNEMENT ET PRODUIT GRAVE
WO0239492 PROCEDE POUR REALISER DES CONDENSATEURS A PUITS DESTINES A DES MEMOIRES A SEMI–CONDUCTEURS A HAUTE INTEGRATION
EP1181400 INSTALLATION DE GRAVURE ELECTROCHIMIQUE ET PROCEDE DE GRAVURE D'UN CORPS A GRAVER
EP1177333 PROCEDE DE PRODUCTION D'UN FILTRE
EP1120483 Procédé de gravure d'un matériau en GaN
WO0138222 NANOPARTICULE DE SILICIUM ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
EP1084285 MEMBRANE EN SILICIUM PERFOREE PRODUITE SELON UN PROCEDE D'ATTAQUE ELECTROCHIMIQUE
WO0060143 INSTALLATION DE GRAVURE ELECTROCHIMIQUE ET PROCEDE DE GRAVURE D'UN CORPS A GRAVER
EP1042794 PROCEDE DE PRODUCTION D'UNE COUCHE POREUSE PAR UN PROCESSUS DE GRAVURE ELECTROCHIMIQUE
EP1039508 Appareil et système d'oxydation anodique, appareil et méthode de traitement de substrats, et méthode de fabrication de substrats
EP1007767 PROCEDE DE PRODUCTION D'UN FILTRE
EP0980446 PROCEDE D'ATTAQUE CHIMIQUE DE SILICIUM PERMETTANT DE FABRIQUER DES GALETTES DE MICROCANAUX
WO9958746 MEMBRANE EN SILICIUM PERFOREE PRODUITE SELON UN PROCEDE D'ATTAQUE ELECTROCHIMIQUE
EP0946890 COUCHE A ZONE POREUSE, FILTRE INTERFERENTIEL RENFERMANT UNE TELLE COUCHE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
WO9936599 PROCEDE ET APPAREIL DE GRAVURE DE SEMI–CONDUCTEURS
WO9926758 COMMANDE PAR VOIE ELECTROCHIMIQUE DE LA CADENCE DE POLISSAGE ET D'USINAGE PAR ABRASION
WO9850604 PROCEDE D'ATTAQUE CHIMIQUE DE SILICIUM PERMETTANT DE FABRIQUER DES GALETTES DE MICROCANAUX
EP0870320 MATRICE VECTRICE POUR SYSTEMES DE MICROANALYSE INTEGRES, SON PROCEDE DE PRODUCTION ET D'UTILISATION
EP0854501 Procédé de formation d'une structure constituée de trous dans un substrat en silicium, par attaque électrochimique
EP0733269 MATERIAU SEMICONDUCTEUR POREUX
WO9428203 ATTAQUE ELECTROCHIMIQUE NUMERIQUE DE SEMICONDUCTEURS COMPOSES
WO9424341 PROCEDE AMELIORE D'ARRACHEMENT DE COUCHES EPITAXIALES
EP0621355 Procédé de production d'un agencement de trou dans un substrat en silicium.
EP0553464 Procédé de fabrication d'une cellule solaire à partir d'un substrat.
EP0553465 Procédé pour la production d'une pièce d'oeuvre perforée.
EP0520073 PROCEDE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT CONTINU DE FIL EBAUCHE.
EP0505425 PROCEDES DE PREPARATION DE SURFACES ET APPLICATIONS DE CEUX–CI.
EP0498274 Procédé électrolytique pour former des trous borgnes et des trous débouchants dans des structures à noyau cuivre–invar–cuivre.
EP0486873 Méthode électrochimique pour gravure anisotropique de silicium.
EP0367750 Procédé de fabrication d'une membrane de silicium à tension mécanique contrÔlée.
EP0253420 Dispositif et procédé de décapage électrochimique du silicium.
EP0106477 Procédé pour la fabrication de dispositifs semi–conducteurs comportant une étape d'attaque électrochimique
EP0103443 Procédé pour fabriquer un dispositif optique
EP0041101 Procédé de décapage électrochimique d'une plaque semiconductrice
EP0037876 Procédé pour l'attaque électrochimique de semiconducteurs et semiconducteur formé selon ce procédé
EP0028082 Traitement de matériaux semiconducteurs et leur utilisation comme électrodes dans des cellules photoélectrochimiques.
FR2385820 METHODE ET DISPOSITIF D'ATTACHE ELECTROCHIMIQUE D'UN MATERIAU SEMI–CONDUCTEUR
FR2383248 PERFECTIONNEMENTS AUX PROCEDES DE PREPARATION DE LA SURFACE DE SEMICONDUCTEURS ET AUX ELECTROLYTES UTILISABLE POUR CETTE PREPARATION
FR2359195 PRODUIT D'ATTAQUE ELECTROLYTIQUE DE FERRITES ET UN PROCEDE DE FABRICATION DE TETE MAGNETIQUE

Copyright © 2008 Patfr.com Tous droits réservés. Contact