N° de brevet
Brevet
FR2891280
FORMATION DE SILICIUM POREUX DANS UNE PLAQUETTE DE SILICIUM
EP1690291
PROCEDE DE GRAVURE ELECTROCHIMIQUE PERMETTANT L'ELIMINATION SELECTIVE DE PHASES ETRANGERES A LA SURFACE D'UN SEMICONDUCTEUR DE CHALCOPYRITE SULFURE
EP1525609
DISPOSITIF DE GRAVURE DE TRANCHES SEMI–CONDUCTRICES A GRANDES SURFACES
EP1456868
SYSTEME ET PROCEDE ELECTROCHIMIQUE DE NETTOYAGE D'UN CHANT ET D'UN CHANFREIN
EP1444722
PROCEDE ET SYSTEME PERMETTANT DES CONTACTS ELECTRIQUES POUR DES PROCEDES DE TRAITEMENT ELECTROLYTIQUE
EP1419523
STRUCTURES FACTICES POUR REDUIRE UN EVIDEMENT METALLIQUE DANS UN PROCESSUS DE POLISSAGE ELECTROLYTIQUE
WO2004017384
DISPOSITIF DE GRAVURE DE TRANCHES SEMI–CONDUCTRICES A GRANDES SURFACES
EP1391541
Procédé pour créer des évidements à la surface d' une pièce, en particulier pour la production de micromoules
EP1341211
Procédé et dispositif pour le traitement chimique induit par la lumière d'une pièce à travailler
WO03060963
SYSTEME ET PROCEDE ELECTROCHIMIQUE DE NETTOYAGE D'UN CHANT ET D'UN CHANFREIN
WO03041147
OXYDANT ANODIQUE, PROCEDE D'OXYDATION ANODIQUE
WO03036693
PROCEDE ET SYSTEME PERMETTANT DES CONTACTS ELECTRIQUES POUR DES PROCEDES DE TRAITEMENT ELECTROLYTIQUE
WO03019641
STRUCTURES FACTICES POUR REDUIRE UN EVIDEMENT METALLIQUE DANS UN PROCESSUS DE POLISSAGE ELECTROLYTIQUE
EP1264202
DISPOSITIFS D'EMISSION STIMULES PAR DES NANOPARTICULES DE SILICIUM
WO02088431
ENSEMBLE ANODE ET PROCEDE D'APPORT D'ELECTROLYTE A LA SURFACE D'UN SUBSTRAT PLANAIRE
EP1232116
NANOPARTICULE DE SILICIUM ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
EP1220307
PROCEDE ET APPAREIL D'ATTAQUE ELECTROCHIMIQUE PAR RAYONNEMENT ET PRODUIT GRAVE
WO0239492
PROCEDE POUR REALISER DES CONDENSATEURS A PUITS DESTINES A DES MEMOIRES A SEMI–CONDUCTEURS A HAUTE INTEGRATION
EP1181400
INSTALLATION DE GRAVURE ELECTROCHIMIQUE ET PROCEDE DE GRAVURE D'UN CORPS A GRAVER
EP1177333
PROCEDE DE PRODUCTION D'UN FILTRE
EP1120483
Procédé de gravure d'un matériau en GaN
WO0138222
NANOPARTICULE DE SILICIUM ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
EP1084285
MEMBRANE EN SILICIUM PERFOREE PRODUITE SELON UN PROCEDE D'ATTAQUE ELECTROCHIMIQUE
WO0060143
INSTALLATION DE GRAVURE ELECTROCHIMIQUE ET PROCEDE DE GRAVURE D'UN CORPS A GRAVER
EP1042794
PROCEDE DE PRODUCTION D'UNE COUCHE POREUSE PAR UN PROCESSUS DE GRAVURE ELECTROCHIMIQUE
EP1039508
Appareil et système d'oxydation anodique, appareil et méthode de traitement de substrats, et méthode de fabrication de substrats
EP1007767
PROCEDE DE PRODUCTION D'UN FILTRE
EP0980446
PROCEDE D'ATTAQUE CHIMIQUE DE SILICIUM PERMETTANT DE FABRIQUER DES GALETTES DE MICROCANAUX
WO9958746
MEMBRANE EN SILICIUM PERFOREE PRODUITE SELON UN PROCEDE D'ATTAQUE ELECTROCHIMIQUE
EP0946890
COUCHE A ZONE POREUSE, FILTRE INTERFERENTIEL RENFERMANT UNE TELLE COUCHE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
WO9936599
PROCEDE ET APPAREIL DE GRAVURE DE SEMI–CONDUCTEURS
WO9926758
COMMANDE PAR VOIE ELECTROCHIMIQUE DE LA CADENCE DE POLISSAGE ET D'USINAGE PAR ABRASION
WO9850604
PROCEDE D'ATTAQUE CHIMIQUE DE SILICIUM PERMETTANT DE FABRIQUER DES GALETTES DE MICROCANAUX
EP0870320
MATRICE VECTRICE POUR SYSTEMES DE MICROANALYSE INTEGRES, SON PROCEDE DE PRODUCTION ET D'UTILISATION
EP0854501
Procédé de formation d'une structure constituée de trous dans un substrat en silicium, par attaque électrochimique
EP0733269
MATERIAU SEMICONDUCTEUR POREUX
WO9428203
ATTAQUE ELECTROCHIMIQUE NUMERIQUE DE SEMICONDUCTEURS COMPOSES
WO9424341
PROCEDE AMELIORE D'ARRACHEMENT DE COUCHES EPITAXIALES
EP0621355
Procédé de production d'un agencement de trou dans un substrat en silicium.
EP0553464
Procédé de fabrication d'une cellule solaire à partir d'un substrat.
EP0553465
Procédé pour la production d'une pièce d'oeuvre perforée.
EP0520073
PROCEDE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT CONTINU DE FIL EBAUCHE.
EP0505425
PROCEDES DE PREPARATION DE SURFACES ET APPLICATIONS DE CEUX–CI.
EP0498274
Procédé électrolytique pour former des trous borgnes et des trous débouchants dans des structures à noyau cuivre–invar–cuivre.
EP0486873
Méthode électrochimique pour gravure anisotropique de silicium.
EP0367750
Procédé de fabrication d'une membrane de silicium à tension mécanique contrÔlée.
EP0253420
Dispositif et procédé de décapage électrochimique du silicium.
EP0106477
Procédé pour la fabrication de dispositifs semi–conducteurs comportant une étape d'attaque électrochimique
EP0103443
Procédé pour fabriquer un dispositif optique
EP0041101
Procédé de décapage électrochimique d'une plaque semiconductrice
EP0037876
Procédé pour l'attaque électrochimique de semiconducteurs et semiconducteur formé selon ce procédé
EP0028082
Traitement de matériaux semiconducteurs et leur utilisation comme électrodes dans des cellules photoélectrochimiques.
FR2385820
METHODE ET DISPOSITIF D'ATTACHE ELECTROCHIMIQUE D'UN MATERIAU SEMI–CONDUCTEUR
FR2383248
PERFECTIONNEMENTS AUX PROCEDES DE PREPARATION DE LA SURFACE DE SEMICONDUCTEURS ET AUX ELECTROLYTES UTILISABLE POUR CETTE PREPARATION
FR2359195
PRODUIT D'ATTAQUE ELECTROLYTIQUE DE FERRITES ET UN PROCEDE DE FABRICATION DE TETE MAGNETIQUE
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