N° de brevet
Brevet
WO2008024874
PROCÉDÉ DE MESURE DES QUANTITÉS PRÉCURSEURS DANS DES SOURCES À BARBOTAGE
EP1885910
SYSTEME DE PULVERISATION DESTINE A LA PULVERISATION PROGRESSIVE D'OBJETS NON RECTANGULAIRES
WO2008001853
procédé de traitement au plasma et équipement
EP1871409
PROCÉDÉ ET APPAREIL AMELIORÉS PERMETTANT DE TRAITER DES INFECTIONS BACTÉRIENNES DANS DES DISPOSITIFS
WO2007146537
PROCÉDÉ DE RÉALISATION D'UNE COUCHE DE MATÉRIAU AU MOYEN D'UN PROCESSUS DE DÉPÔT DE COUCHE ATOMIQUE
WO2007142850
COMMANDE D'ÉCOULEMENT GAZEUX PAR DES MESURES DE PRESSION DIFFÉRENTIELLE
EP1863951
PROCEDES ET APPAREIL PERMETTANT DE DETERMINER LE POINT FINAL D'UN PROCESSUS DE NETTOYAGE OU DE TRAITEMENT DANS UN SYSTEME DE TRAITEMENT AU PLASMA
WO2007116969
MÉTHODE ET APPAREIL DE TRAITEMENT
WO2007111351
PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR
WO2007099490
ENSEMBLE ET PROCEDE DE TRAITEMENT D'UN LOT DE TRANCHES
WO2007091555
appareil de commande d'un appareil de traitement de substrat et programme de commande d'un appareil de traitement de substrat
EP1809789
PROCEDE DE REFROIDISSEMENT DE REACTEUR D'EPITAXIE ET REACTEUR AINSI REFROIDI
WO2007081202
PROCEDE ET APPAREIL POUR DEPOT CONTROLE DE MATERIAU AU MOYEN DE PLASMA SUR UN SUBSTRAT TRI–DIMENSIONNEL
WO2007075977
SYSTEME EB–PVD A CONTROLE DE HAUTEUR DE BAIN DE FUSION AUTOMATIQUE
EP1796850
PROCEDE DE REVETEMENT CRYOGENIQUE D'UN DISPOSITIF
WO2007063841
PROCEDE ET APPAREIL DE TRAITEMENT THERMIQUE
EP1783813
Contrôle d'un processus à plasma à base de la fréquence des micro–ondes
WO2007048937
METHODE DE SURVEILLANCE D'UN PLASMA, DISPOSITIF POUR LA MISE EN OEVRE DE CETTE METHODE, APPLICATION DE CETTE METHODE AU DEPOT D'UN FILM SUR CORPS CREUX EN PET
WO2007022144
INTERFEROMETRIE OPTIQUE D'EMISSIONS EN PECVD UTILISANT UN TROU D'INJECTION DE GAZ
WO2007015967
PROCEDE ET APPAREIL DE SURVEILLANCE D'UN MOTIF D'UN LIQUIDE APPLIQUE
FR2888587
APPAREIL POUR LE DEPOT PECVD D'UNE COUCHE BARRIERE INTERNE SUR UN RECIPIENT, COMPRENANT UN DISPOSITIF D'ANALYSE OPTIQUE DU PLASMA
WO2007008438
CAPTEUR DE SURVEILLANCE ET DE COMMANDE DE DEPOT PULSE
WO2006138448
SYSTEME DE DISTRIBUTION D'ADHESIF LIQUIDE
EP1735480
SYSTEME ET PROCEDE DE DISTRIBUTION D'UN DEBIT MASSIQUE PULSE
WO2006126440
PROCEDE DE FORMATION DE FILM ET SUPPORT DE STOCKAGE INFORMATIQUE
WO2006124500
SYSTEME DE PULVERISATION DESTINE A LA PULVERISATION PROGRESSIVE D'OBJETS NON RECTANGULAIRES
EP1720197
Dispositif de traitement par plasma et système de validation de performances
EP1720196
Méthode d'évaluation des performances d'un appareil de traitement par plasma pour la maintenance d'un niveau constant requis de performance
EP1713951
REGULATION DU DIAMETRE DES NANOTUBES DE CARBONE GENERES PAR PROCEDE CVD OU PECVD
WO2006104841
PROCEDES ET APPAREIL PERMETTANT DE DETERMINER LE POINT FINAL D'UN PROCESSUS DE NETTOYAGE OU DE TRAITEMENT DANS UN SYSTEME DE TRAITEMENT AU PLASMA
WO2006100953
PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM
EP1695038
REGULATION DU DEBIT DE VAPEURS SUBLIMEES A PARTIR DE SOLIDES
EP1690287
CARBURE DE SILICIUM ET AUTRES FILMS, ET METHODE DE DEPOT ASSOCIEE
WO2006083557
APPLICATION DE PULVERISATION A HAUT RENDEMENT
WO2006081020
PROCEDE ET APPAREIL POUR DEPOT MONOCOUCHE
WO2006081023
PROCEDE ET APPAREIL DE DEPOT MONOCOUCHE (MLD)
FR2880037
PROCEDE DE DEPOT D'UNE COUCHE DE CARBONITRURE METALLIQUE POUR LA FABRICATION D'ELECTRODES OU DE COUCHES BARRIERES
WO2006065426
SYSTEME ET PROCEDE DE DISTRIBUTION DE DEBIT PULSE
WO2006059602
PROCEDE ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET SUPPORT DE STOCKAGE
EP1664377
PROCEDE ET DISPOSITIF POUR L'APPLICATION DE REVETEMENT SUR UN SUBSTRAT
WO2006058061
DISPOSITIF INJECTEUR DE RECONSTITUTION AUTOMATIQUE
WO2006054953
FILMS D'OXYDE METALLIQUE DOPE ET SYSTEMES DE FABRICATION
EP1650789
DISPOSITIF DE TRAITEMENT THERMIQUE ET PROCEDE D'ETALONNAGE
WO2006038659
APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF A SEMICONDUCTEUR
EP1643005
Procédé de déposition de nanocouches inorganiques et/ou organiques par decharge de plasma
EP1630848
Procédé et dispositif pour le revetement de pièces par plasma dans lequel les parametres du procédé sont évalués par mesures spectrales
WO2006020659
PROCEDE DE REVETEMENT CRYOGENIQUE D'UN DISPOSITIF
EP1620577
COMMANDE OU MODELISATION DE PROCEDE D'INFILTRATION CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR POUR LA DENSIFICATION DE SUBSTRATS POREUX PAR DU CARBONE.
EP1612856
DISPOSITIF ET PROCEDE DE NETTOYAGE D'UN DISPOSITIF DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR
WO2005103328
SYSTEME ET PROCEDE DE DISTRIBUTION D'UN DEBIT MASSIQUE PULSE
WO2005069358
PROCEDE DE FORMATIONS D'UN FILM
WO2005059202
PROCEDE DE FORMATION DE FILM MINCE ET SUPPORT COMPORTANT UN FILM MINCE FORME PAR UN TEL PROCEDE
WO2005049884
CARBURE DE SILICIUM ET AUTRES FILMS, ET METHODE DE DEPOT ASSOCIEE
EP1534876
PROCEDE DE FORMATION D UN REVETEMENT SUR UN VITRAGE EN MATIE RE PLASTIQUE
WO2005047562
APPAREIL DE PREPARATION ET DE STOCKAGE D'ALIMENTS
EP1531490
SONDE DE TYPE A FENETRE, DISPOSITIF DE SURVEILLANCE A PLASMA ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT A PLASMA
WO2005040453
REGULATION DU DIAMETRE DES NANOTUBES DE CARBONE GENERES PAR PROCEDE CVD OU PECVD
WO2005034220
APPAREIL ET PROCEDE D'EPITAXIE EN PHASE VAPEUR
EP1521293
Appareil pour le dépôt du métal submicronique
WO2005026401
PROCEDE ET DISPOSITIF POUR DEPOSER DES COUCHES OU DES SERIES DE COUCHES MONOCOMPOSANTS OU MULTICOMPOSANTS PAR INJECTION NON CONTINUE DE SUBSTANCES DE DEPART LIQUIDES OU DISSOUTES AU MOYEN D'UNE UNITE D'INJECTION A PLUSIEURS CANAUX
WO2005017228
PROCEDE ET DISPOSITIF POUR L'APPLICATION DE REVETEMENT SUR UN SUBSTRAT
EP1502289
SYSTEME CAPTEUR INFRAROUGE A THERMOPILES POUR LE CONTROLE ET LA REGULATION DE PROCESSUS FAISANT INTERVENIR DES SEMI–CONDUCTEURS
WO2005004214
DISPOSITIF DE TRAITEMENT THERMIQUE ET PROCEDE D'ETALONNAGE
EP1495485
SYSTEME DE SURVEILLANCE ELOIGNEE POUR LIQUIDE CHIMIQUE
EP1476903
PROCEDE D'ETALONNAGE ET D'UTILISATION D'UN SYSTEME DE TRAITEMENT DE SEMI–CONDUCTEURS
WO2004097065
COMMANDE OU MODELISATION DE PROCEDE D'INFILTRATION CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR POUR LA DENSIFICATION DE SUBSTRATS POREUX PAR DU CARBONE.
EP1475825
DISPOSITIF DE TRAITEMENT ET PROCEDE DE TRAITEMENT
FR2854168
COMMANDE OU MODELISATION DE PROCEDE D'INFILTRATION CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR POUR LA DENSIFICATION DE SUBSTRATS POREUX PAR DU CARBONE
EP1466353
SUPPRESSION DE LA CONTAMINATION DANS LE DEPOT FLUIDIQUE CHIMIQUE
WO2004082009
DISPOSITIF ET PROCEDE DE NETTOYAGE D'UN DISPOSITIF DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR
EP1456433
PROCEDE POUR LE SUIVI DU DEROULEMENT D'UN PROCESSUS UTILISANT UN GAZ REACTIF CONTENANT UN OU PLUSIEURS HYDROCARBURES GAZEUX
WO2004074543
PROCEDE PERMETTANT DE FORMER UN FILM
WO2004073849
DISTRIBUTION A DES PRESSIONS SUB–ATMOSPHERIQUES DE LIQUIDES, SOLIDES ET GAZ A FAIBLE PRESSION DE VAPEUR
EP1436444
PROCEDE ET DISPOSITIF DE CONTROLE D'UN PROCESSUS CVD
EP1437763
APPAREIL DE FABRICATION D'UN SEMI–CONDUCTEUR ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR
WO2004050938
MICROMACHINES POUR LA DISTRIBUTION DE PRECURSEURS ET DE GAZ POUR LE DEPOT DE FILMS
WO2004048639
AMELIORATIONS APPORTEES A UN PROCESSUS DE DEPOT
WO2004044969
UNITE DE SOUPAPE ET SYSTEME DE TRAITEMENT THERMIQUE
EP1422743
SYSTEME DE TRAITEMENT
EP1422747
APPAREIL ET PROCEDE POUR PRODUIRE UN DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEURS ET PROCEDE POUR NETTOYER UN APPAREIL DE PRODUCTION DE SEMI–CONDUCTEURS
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