N° de brevet Brevet
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WO2007075977 SYSTEME EB–PVD A CONTROLE DE HAUTEUR DE BAIN DE FUSION AUTOMATIQUE
EP1796850 PROCEDE DE REVETEMENT CRYOGENIQUE D'UN DISPOSITIF
WO2007063841 PROCEDE ET APPAREIL DE TRAITEMENT THERMIQUE
EP1783813 Contrôle d'un processus à plasma à base de la fréquence des micro–ondes
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EP1735480 SYSTEME ET PROCEDE DE DISTRIBUTION D'UN DEBIT MASSIQUE PULSE
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WO2006124500 SYSTEME DE PULVERISATION DESTINE A LA PULVERISATION PROGRESSIVE D'OBJETS NON RECTANGULAIRES
EP1720197 Dispositif de traitement par plasma et système de validation de performances
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EP1713951 REGULATION DU DIAMETRE DES NANOTUBES DE CARBONE GENERES PAR PROCEDE CVD OU PECVD
WO2006104841 PROCEDES ET APPAREIL PERMETTANT DE DETERMINER LE POINT FINAL D'UN PROCESSUS DE NETTOYAGE OU DE TRAITEMENT DANS UN SYSTEME DE TRAITEMENT AU PLASMA
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EP1695038 REGULATION DU DEBIT DE VAPEURS SUBLIMEES A PARTIR DE SOLIDES
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WO2006081023 PROCEDE ET APPAREIL DE DEPOT MONOCOUCHE (MLD)
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WO2006065426 SYSTEME ET PROCEDE DE DISTRIBUTION DE DEBIT PULSE
WO2006059602 PROCEDE ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET SUPPORT DE STOCKAGE
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WO2006038659 APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF A SEMICONDUCTEUR
EP1643005 Procédé de déposition de nanocouches inorganiques et/ou organiques par decharge de plasma
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WO2006020659 PROCEDE DE REVETEMENT CRYOGENIQUE D'UN DISPOSITIF
EP1620577 COMMANDE OU MODELISATION DE PROCEDE D'INFILTRATION CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR POUR LA DENSIFICATION DE SUBSTRATS POREUX PAR DU CARBONE.
EP1612856 DISPOSITIF ET PROCEDE DE NETTOYAGE D'UN DISPOSITIF DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR
WO2005103328 SYSTEME ET PROCEDE DE DISTRIBUTION D'UN DEBIT MASSIQUE PULSE
WO2005069358 PROCEDE DE FORMATIONS D'UN FILM
WO2005059202 PROCEDE DE FORMATION DE FILM MINCE ET SUPPORT COMPORTANT UN FILM MINCE FORME PAR UN TEL PROCEDE
WO2005049884 CARBURE DE SILICIUM ET AUTRES FILMS, ET METHODE DE DEPOT ASSOCIEE
EP1534876 PROCEDE DE FORMATION D UN REVETEMENT SUR UN VITRAGE EN MATIE RE PLASTIQUE
WO2005047562 APPAREIL DE PREPARATION ET DE STOCKAGE D'ALIMENTS
EP1531490 SONDE DE TYPE A FENETRE, DISPOSITIF DE SURVEILLANCE A PLASMA ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT A PLASMA
WO2005040453 REGULATION DU DIAMETRE DES NANOTUBES DE CARBONE GENERES PAR PROCEDE CVD OU PECVD
WO2005034220 APPAREIL ET PROCEDE D'EPITAXIE EN PHASE VAPEUR
EP1521293 Appareil pour le dépôt du métal submicronique
WO2005026401 PROCEDE ET DISPOSITIF POUR DEPOSER DES COUCHES OU DES SERIES DE COUCHES MONOCOMPOSANTS OU MULTICOMPOSANTS PAR INJECTION NON CONTINUE DE SUBSTANCES DE DEPART LIQUIDES OU DISSOUTES AU MOYEN D'UNE UNITE D'INJECTION A PLUSIEURS CANAUX
WO2005017228 PROCEDE ET DISPOSITIF POUR L'APPLICATION DE REVETEMENT SUR UN SUBSTRAT
EP1502289 SYSTEME CAPTEUR INFRAROUGE A THERMOPILES POUR LE CONTROLE ET LA REGULATION DE PROCESSUS FAISANT INTERVENIR DES SEMI–CONDUCTEURS
WO2005004214 DISPOSITIF DE TRAITEMENT THERMIQUE ET PROCEDE D'ETALONNAGE
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EP1476903 PROCEDE D'ETALONNAGE ET D'UTILISATION D'UN SYSTEME DE TRAITEMENT DE SEMI–CONDUCTEURS
WO2004097065 COMMANDE OU MODELISATION DE PROCEDE D'INFILTRATION CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR POUR LA DENSIFICATION DE SUBSTRATS POREUX PAR DU CARBONE.
EP1475825 DISPOSITIF DE TRAITEMENT ET PROCEDE DE TRAITEMENT
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EP1466353 SUPPRESSION DE LA CONTAMINATION DANS LE DEPOT FLUIDIQUE CHIMIQUE
WO2004082009 DISPOSITIF ET PROCEDE DE NETTOYAGE D'UN DISPOSITIF DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR
EP1456433 PROCEDE POUR LE SUIVI DU DEROULEMENT D'UN PROCESSUS UTILISANT UN GAZ REACTIF CONTENANT UN OU PLUSIEURS HYDROCARBURES GAZEUX
WO2004074543 PROCEDE PERMETTANT DE FORMER UN FILM
WO2004073849 DISTRIBUTION A DES PRESSIONS SUB–ATMOSPHERIQUES DE LIQUIDES, SOLIDES ET GAZ A FAIBLE PRESSION DE VAPEUR
EP1436444 PROCEDE ET DISPOSITIF DE CONTROLE D'UN PROCESSUS CVD
EP1437763 APPAREIL DE FABRICATION D'UN SEMI–CONDUCTEUR ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR
WO2004050938 MICROMACHINES POUR LA DISTRIBUTION DE PRECURSEURS ET DE GAZ POUR LE DEPOT DE FILMS
WO2004048639 AMELIORATIONS APPORTEES A UN PROCESSUS DE DEPOT
WO2004044969 UNITE DE SOUPAPE ET SYSTEME DE TRAITEMENT THERMIQUE
EP1422743 SYSTEME DE TRAITEMENT
EP1422747 APPAREIL ET PROCEDE POUR PRODUIRE UN DISPOSITIF A SEMI–CONDUCTEURS ET PROCEDE POUR NETTOYER UN APPAREIL DE PRODUCTION DE SEMI–CONDUCTEURS
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