N° de brevet Brevet
WO2008026491 APPAREIL DE FABRICATION DE FILM MINCE UTILISANT UNE ÉLECTRODE ÉMISSIVE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLULE SOLAIRE
WO2008026469 BOUTEILLE COMPOSÉE DE RÉSINE SYNTHÉTIQUE
EP1889943 Procédé et dispositif destinés au revêtement d'un corps de base
WO2008018861 COMPLEXES DE CUIVRE(I) ET PROCÉDÉS DE DÉPÔT DE FILMS DE CUIVRE AU MOYEN D'UN DÉPÔT PAR COUCHE ATOMIQUE
WO2008018994 DIÉLECTRIQUES DE GRILLE À BASE DE TITANATE DE BARYUM SUBSTITUÉ PAR LE ZIRCONIUM
EP1882757 Equipement de dépôt de vapeur organique métallique
EP1879213 Appareil de traitement à plasma micro–ondes
EP1876639 PLATEAU PULVERISATEUR ET METHODE DE FABRICATION DE CELLE–CI
WO2008001723 DISPOSITIF DE FABRICATION D'UN FILM MINCE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM MINCE
WO2007147946 PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PRÉFORME DE FIBRE
WO2007146537 PROCÉDÉ DE RÉALISATION D'UNE COUCHE DE MATÉRIAU AU MOYEN D'UN PROCESSUS DE DÉPÔT DE COUCHE ATOMIQUE
WO2007145513 PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR LA DÉPOSITION D'UNE COUCHE ATOMIQUE UTILISANT UN PLASMA À DÉCHARGE LUMINESCENTE À PRESSION ATMOSPHÉRIQUE
EP1866465 SYSTEME DE REACTION DESTINE A CREER UNE COUCHE MINCE
WO2007142850 COMMANDE D'ÉCOULEMENT GAZEUX PAR DES MESURES DE PRESSION DIFFÉRENTIELLE
WO2007133358 STRUCTURES DE COUCHES TAMPON SEMI–CONDUCTRICES
EP1854907 Dispositif pour le traitement chimique sous vide assisté par plasma de la surface de substrats
WO2007125589 ECRAN A PLASMA ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM UTILISE POUR FABRIQUER CELUI–CI
EP1851358 PROCEDE DE DENSIFICATION DE SUBSTRATS POREUX MINCES PAR INFILTRATION CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ET DISPOSITIF DE CHARGEMENT DE TELS SUBSTRATS
FR2900070 DISPOSITIF D'INTRODUCTION OU D'INJECTION OU DE PULVERISATION D'UN MELANGE DE GAZ VECTEUR ET DE COMPOSES LIQUIDES ET PROCEDE DE MISE EN OEUVRE DUDIT DISPOSITIF.
FR2900071 DISPOSITIF D'INTRODUCTION OU D'INJECTION OU DE PULVERISATION D'UN MELANGE DE GAZ VECTEUR ET DE COMPOSES LIQUIDES ET PROCEDE DE MISE EN OEUVRE DUDIT DISPOSITIF
WO2007118898 DISPOSITIF D'INTRODUCTION, D'INJECTION OU DE VAPORISATION D'UN MÉLANGE D'UN GAZ VECTEUR ET DE COMPOSÉS LIQUIDES ET MÉTHODE D'APPLICATION DUDIT DISPOSITIF
WO2007117989 PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILMS CONTENANT UN OXYNITRURE D'ÉLÉMENTS MIXTES DES TERRES RARES ET DE L'OXYNITRURE D'ALUMINIUM PAR DÉPÔT DE COUCHES ATOMIQUES
WO2007118006 Procédé de formation de films mixtes de nitrure de terres rares et de nitrure d'aluminium par dépôt de couches atomiques
WO2007117894 FOUR DE TRAITEMENT THERMIQUE, SYSTÈME DE DISTRIBUTION DE GAZ ASSOCIÉ ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS DE DISTRIBUTION D'UN GAZ DE TRAITEMENT
WO2007117898 SYSTÈME DESTINÉ À INTRODUIRE UN GAZ PRÉCURSEUR DANS UN SYSTÈME DE DÉPÔT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE
WO2007116969 MÉTHODE ET APPAREIL DE TRAITEMENT
WO2007111204 ELECTRODE ET APPAREIL DE TRAITEMENT SOUS VIDE
WO2007088249 REVETEMENT PROTECTEUR D'ARGENT
WO2007060295 PROCEDE POUR EMPECHER LA LIXIVIATION METALLIQUE DU CUIVRE ET DE SES ALLIAGES
EP1789605 MAITRISE DE L'UNIFORMITE DU PLASMA PAR LA COURBURE DU DIFFUSEUR
EP1779411 TECHNIQUE DE DÉPOSITION POUR LA PRODUCTION DE MATÉRIAU SEMICONDUCTEUS COMPOSITES DE HAUTE QUALITÉ
EP1772534 Précurseur s contenant du tungstène ou du hafnium pour le depôt en phase vapeur
EP1761655 PROCEDE POUR LA FABRICATION DE PRODUIT METALLIQUE REVETU DE FILM MINCE ULTRA HYDROPHILE ET PRODUIT METALLIQUE REVETU DE FILM ULTRA HYDROPHILE
EP1759034 FILM MINCE ANTIBACTERIEN ET ULTRAHYDROPHILE RECOUVERT D'UN PRODUIT METALLIQUE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
WO2007019437 DÉPÔT PAR COUCHES ATOMIQUES DE FILMS CONTENANT DU RUTHÉNIUM UTILISANT DES AGENTS D'ACTIVATION DE SURFACE ET DES COMPLEXES DE RUTHÉNIUM SÉLECTIONNÉS
FR2889204 APPAREIL POUR LE DEPOT PECVD D'UNE COUCHE BARRIERE INTERNE SUR UN RECIPIENT, COMPRENANT UNE LIGNE DE GAZ ISOLEE PAR ELECTROVANNE
WO2007008438 CAPTEUR DE SURVEILLANCE ET DE COMMANDE DE DEPOT PULSE
EP1743954 Procédé ALD pour déposer une couche
EP1735480 SYSTEME ET PROCEDE DE DISTRIBUTION D'UN DEBIT MASSIQUE PULSE
WO2006123526 APPAREIL DE TRAITEMENT PLASMA
EP1718784 SYSTEME D'ADMISSION POUR REACTEUR MOCVD
WO2006112392 PLATEAU PULVÉRISATEUR ET MÉTHODE DE FABRICATION DE CELLE–CI
WO2006101646 PROCEDE DESTINE A LA FORMATION D'UNE COUCHE METALLIQUE DE RUTHENIUM SUR UN SUBSTRAT COMPORTANT UN MOTIF
WO2006101697 VAPORISATEUR ET PROCEDE DE VAPORISATION DE LIQUIDE POUR DEPOT DE COUCHE MINCE
EP1703549 DISPOSITIF DE CROISSANCE EN PHASE VAPEUR ET PROCEDE DE PRODUCTION DE TRANCHE EPITAXIALE
EP1703550 DISPOSITIF DE CROISSANCE EN PHASE VAPEUR ET PROCEDE DE PRODUCTION DE TRANCHE EPITAXIALE
FR2882064 PROCEDE DE DENSIFICATION DE SUBSTRATS POREUX MINCES PAR INFILTRATION CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ET DISPOSITIF DE CHARGEMENT DE TELS SUBSTRATS
WO2006081023 PROCEDE ET APPAREIL DE DEPOT MONOCOUCHE (MLD)
WO2006081020 PROCEDE ET APPAREIL POUR DEPOT MONOCOUCHE
WO2006081104 NACELLE A TRANCHES DE SEMI–CONDUCTEUR POUR FOUR VERTICAL
WO2006078666 SYSTEME DE REACTION DESTINE A CREER UNE COUCHE MINCE
WO2006065426 SYSTEME ET PROCEDE DE DISTRIBUTION DE DEBIT PULSE
WO2006059602 PROCEDE ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET SUPPORT DE STOCKAGE
EP1666625 Procédé de revêtement d'un composant a l'interieur d'un aparat
EP1664379 METALLISATION DE SUBSTRAT(S) PAR PROCEDE DE DEPOT EN PHASES LIQUIDE–VAPEUR
EP1665339 CROISSANCE DE CRISTAL DE PURETE ELEVEE
WO2006058061 DISPOSITIF INJECTEUR DE RECONSTITUTION AUTOMATIQUE
EP1660238 PROCEDE ET APPAREIL DE DEPOSITION CHIMIQUE METAL–OXYDE EN PHASE VAPEUR (MOCVD) POUR PRODUIRE UNE BANDE MULTICOUCHE ENROBEE SUPRACONDUCTRICE A HAUTE TEMPERATURE
EP1654754 DISPOSITIF D'ALIMENTATION, EN PARTICULIER POUR UN REACTEUR DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR UTILISE POUR LA CROISSANCE D'UNE COUCHE EPITAXIALE
EP1655392 Couche d'alumine présentant une texture améliorée
EP1650325 PROCEDE POUR FORMER UN FILM DE REVETEMENT D'OXYDE METALLIQUE ET APPAREIL DE DEPOT PAR EVAPORATION SOUS VIDE
EP1641958 PROCEDES DE FORMATION D'UNE COUCHE COMPRENANT DU DIOXYDE DE SILICIUM DOPE AU PHOSPHORE ET PROCEDE POUR FORMER UNE ISOLATION DE TRANCHEES DANS LA FABRICATION DE CIRCUITS INTEGRES
EP1643005 Procédé de déposition de nanocouches inorganiques et/ou organiques par decharge de plasma
WO2006033731 DEPOT DE CUIVRE EN COUCHE ATOMIQUE AU MOYEN DE TENSIOACTIFS
EP1639150 APPAREIL ET PROCEDE PERMETTANT L'APPLICATION CONTROLEE DE VAPEURS REACTIVES EN VUE DE PRODUIRE DES FILMS ET DES REVETEMENTS MINCES
EP1629522 SYSTEME DE DISTRIBUTION DE GAZ
WO2006017136 MAITRISE DE L'UNIFORMITE DU PLASMA PAR LA COURBURE DU DIFFUSEUR
EP1613792 PROCEDES ET APPAREIL POUR PERFECTIONNEMENTS AU TEMPS DE CYCLE POUR DEPOT EN COUCHES ATOMIQUES
EP1607498 PROCEDE PERMETTANT DE FORMER UN FILM COUCHE D'OXYDE, FILM COUCHE D'OXYDE ET STRUCTURE FILM
EP1593755 Appareillage et procédé de production de films
WO2005103328 SYSTEME ET PROCEDE DE DISTRIBUTION D'UN DEBIT MASSIQUE PULSE
WO2005098074 PROCEDE POUR LA FABRICATION DE PRODUIT METALLIQUE REVETU DE FILM MINCE ULTRA HYDROPHILE ET PRODUIT METALLIQUE REVETU DE FILM ULTRA HYDROPHILE
WO2005098938 FORMATION D'UNE COUCHE DE RUTHENIUM POUR DEPOT D'UN FILM DE CUIVRE
EP1571234 Méthode pour l'usage d'un dispositif de revêtement en continu
WO2005080631 SYSTEME D'ADMISSION POUR REACTEUR MOCVD
WO2005059974 PLAQUE AVANT DE FLUX LATERAL DESTINEE A AMELIORER DES PROPRIETES DE FILMS DE DEPOT EN PHASE VAPEUR (CDV)
WO2005059981 DISPOSITIF DE CROISSANCE EN PHASE VAPEUR ET PROCEDE DE PRODUCTION DE TRANCHE EPITAXIALE
WO2005059980 DISPOSITIF DE CROISSANCE EN PHASE VAPEUR ET PROCEDE DE PRODUCTION DE TRANCHE EPITAXIALE
EP1546433 CORPS CREUX A REVETEMENT INTERIEUR, PROCEDE DE REVETEMENT ET DISPOSITIF
EP1543177 DEPOT PAR EVAPORATION SOUS VIDE DE NITRURE DE TUNGSTENE
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