| N° de brevet |
Brevet |
| WO2008026470 |
COMPLEXE IMIDE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI–CI, COUCHE MINCE CONTENANT DES MÉTAUX ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLE–CI |
| WO2008018861 |
COMPLEXES DE CUIVRE(I) ET PROCÉDÉS DE DÉPÔT DE FILMS DE CUIVRE AU MOYEN D'UN DÉPÔT PAR COUCHE ATOMIQUE |
| WO2008015914 |
PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE FORMAGE DE FILM CVD |
| FR2904006 |
PROCEDE DE DEPOT DE REVETEMENTS METALLIQUES DURS |
| FR2904007 |
PROCEDE DE DEPOT DE REVETEMENTS CERAMIQUES NON OXYDES. |
| WO2008010489 |
PROCÉDÉ ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM |
| WO2008006785 |
PROCÉDÉ À UNE ÉTAPE POUR L'APPLICATION D'UNE COUCHE MÉTALLIQUE SUR UN SUBSTRAT |
| WO2007142329 |
APPAREIL ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, PROGRAMME INFORMATIQUE ET SUPPORT DE STOCKAGE |
| WO2007140813 |
PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILMS À CONSTANTE DIÉLECTRIQUE ÉLEVÉE À BASE DE NOUVEAUX PRÉCURSEURS DE TITANE, DE ZIRCONIUM ET D'HAFNIUM ET UTILISATION DESDITS FILMS POUR LA FABRICATION DE SEMI–CONDUCTEURS |
| EP1849789 |
Complexes métalliques de polydentate bêta–kétoiminates |
| WO2007119866 |
APPAREIL ET PROCEDE DESTINES A LA FORMATION DE FILMS |
| WO2007102333 |
PROCEDE DE DEPOT D'UN FILM DE RUTHENIUM ET SUPPORT DE MEMOIRE POUVANT ETRE LU PAR UN ORDINATEUR |
| EP1831424 |
NANO–FILM A BASE DE TI–O–C ULTRA–HYDROPHILE ET SON PROCEDE DE FABRICATION |
| EP1828431 |
PROCEDE DE PREPARATION DE NANOPARTICULES D'UN METAL OU D'UN ALLIAGE DE METAUX, DISPERSEES SUR UN SUBSTRAT, PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR |
| WO2007091339 |
PROCEDE DE FORMATION D'UN FILM METALLIQUE |
| WO2007088291 |
CATHODE POUR RÉACTEUR ÉLECTROCHIMIQUE, RÉACTEUR ÉLECTROCHIMIQUE INTÉGRANT DE TELLES CATHODES ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE TELLE CATHODE |
| EP1811059 |
PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM CONTENANT DU CUIVRE |
| EP1805195 |
COMPOSES DE PRECURSEURS ORGANOMETALLIQUES |
| EP1806352 |
Liaisons de tungstène et molybdène et son utilisation dans le dépôt chimique en phase vapeur |
| WO2007066546 |
COMPOSE DE HAFNIUM, MATERIAU A BASE DE HAFNIUM FORMANT DES FILMS MINCES ET PROCEDE DE FORMATION DE FILMS MINCES A BASE DE HAFNIUM |
| WO2007064376 |
PRÉCURSEURS ORGANOMÉTALLIQUES ET INTERMÉDIAIRES APPARENTÉS POUR DES PROCÉDÉS DE DÉPÔT, LEUR PRODUCTION ET LEURS PROCÉDÉS D'UTILISATION |
| WO2007058120 |
PROCESSUS DE FABRICATION DE DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR ET APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT |
| EP1778891 |
COMPOSITION SOLIDE DIVISEE FORMEE DE GRAINS A DEPOT METALLIQUE CONTINU, SON PROCEDE DE FABRICATION, ET SON UTILISATION À TITRE DE CATALYSEUR |
| EP1759410 |
COMPOSÉS PRÉCURSEURS ORGANOMÉTALLIQUES |
| WO2007019437 |
DÉPÔT PAR COUCHES ATOMIQUES DE FILMS CONTENANT DU RUTHÉNIUM UTILISANT DES AGENTS D'ACTIVATION DE SURFACE ET DES COMPLEXES DE RUTHÉNIUM SÉLECTIONNÉS |
| EP1743953 |
PROCEDE DE FORMATION D'UN FILM DE CUIVRE |
| WO2006134930 |
PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION D'UN DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR ET APPAREIL POUR LE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT |
| WO2006131751 |
PRÉCURSEURS D'HAFNIUM ET DE ZIRCONIUM DE TYPE CYCLOPENTADIÉNYLE ET LEUR UTILISATION DANS LE DÉPÔT ATOMIQUE D'UNE COUCHE |
| EP1712656 |
Purification de composés métalliques |
| WO2006101130 |
APPAREIL FILMOGENE ET METHODE DE FORMATION DE FILMS |
| WO2006101646 |
PROCEDE DESTINE A LA FORMATION D'UNE COUCHE METALLIQUE DE RUTHENIUM SUR UN SUBSTRAT COMPORTANT UN MOTIF |
| EP1697296 |
COMPLEXES DE FORMIATE DE CUIVRE(I) |
| EP1698614 |
COMPOSE METALLIQUE, MATERIAU PERMETTANT DE FORMER UN FILM MINCE, ET PROCEDE DE PREPARATION D UN FILM MINCE |
| EP1686198 |
Précurseur titane, procédé pour sa préparation, procédé de fabrication de couches minces contenant du titane en utilisant le precurseur titane et la couche mince contenant du titane |
| EP1666625 |
Procédé de revêtement d'un composant a l'interieur d'un aparat |
| EP1660238 |
PROCEDE ET APPAREIL DE DEPOSITION CHIMIQUE METAL–OXYDE EN PHASE VAPEUR (MOCVD) POUR PRODUIRE UNE BANDE MULTICOUCHE ENROBEE SUPRACONDUCTRICE A HAUTE TEMPERATURE |
| EP1659130 |
COMPLEXE DE METAUX DES TERRES RARES, MATERIAU DE FORMATION DE COUCHE MINCE ET PROCEDE DE PRODUCTION DE COUCHE MINCE |
| EP1657245 |
COMPOSE D'ORGANO–IRIDIUM, PROCEDE DE FABRICATION DUDIT COMPOSE ET PROCEDE DE FABRICATION DUDIT FILM |
| WO2006045885 |
PROCEDE PERMETTANT DE DEPOSER DES FILMS CONTENANT DU PLOMB |
| WO2006046386 |
PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR, DISPOSITIF SEMI–CONDUCTEUR, PROGRAMME ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT |
| WO2006035784 |
PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM CONTENANT DU CUIVRE |
| WO2006033731 |
DEPOT DE CUIVRE EN COUCHE ATOMIQUE AU MOYEN DE TENSIOACTIFS |
| EP1640475 |
Composés précurseurs pour la déposition de la céramique et des films métalliques et méthodes pour leur préparation |
| EP1636400 |
PROCEDE ET APPAREIL PERMETTANT DE GENERER UN PRECURSEUR POUR UN SYSTEME DE TRAITEMENT DE SEMI–CONDUCTEURS |
| WO2006010914 |
PROCEDE DE DEPOT AMELIORE |
| WO2006009590 |
COMPOSES DE CUIVRE (I) DESTINES A ETRE UTILISES COMME PRECURSEURS DE DEPOT DE COUCHES MINCES DE CUIVRE |
| FR2872061 |
COMPOSITION SOLIDE DIVISEE FORMEE DE GRAINS A DEPOT METALLIQUE ATOMIQUE CONTINU ET SON PROCEDE D'OBTENTION |
| EP1606429 |
PROCEDE POUR LE DEPOT PAR CVD D'UN FILM D ARGENT SUR UN SUBSTRAT |
| EP1599488 |
PRECURSEURS UTILISES DANS LE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR DE MATERIAUX A BASE DE TANTALE |
| EP1599613 |
PROCEDE POUR APPLIQUER UN REVETEMENT SUR UN SUBSTRAT |
| EP1593752 |
Dépôt de revêtement multi–composant |
| WO2005103318 |
COMPOSES ORGANOMETALLIQUES A HAUTE DENSITE DE NUCLEATION |
| WO2005098938 |
FORMATION D'UNE COUCHE DE RUTHENIUM POUR DEPOT D'UN FILM DE CUIVRE |
| WO2005083152 |
PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN FILM DE CUIVRE |
| WO2005081933 |
PROCEDE DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR DE CONDUCTIVITE ELEVEE, FILMS MINCES ADHERENTS DE RUTHENIUM |
| EP1563117 |
DEPOT DE COUCHES ATOMIQUES A L'AIDE D'AMIDINATES METALLIQUES |
| EP1558783 |
DEPOT DE COUCHES ATOMIQUES DE CUIVRE EN DEUX OPERATIONS |
| WO2005063685 |
COMPOSE METALLIQUE, MATERIAU PERMETTANT DE FORMER UN FILM MINCE, ET PROCEDE DE PREPARATION D'UN FILM MINCE |
| WO2005058789 |
COMPLEXES DE FORMIATE DE CUIVRE(I) |
| WO2005035823 |
COMPLEXE METALLIQUE COMPORTANT UN LIGAND DOLLAR G(B)–DICETONATO, ET PROCEDE DE PRODUCTION D'UNE FINE COUCHE CONTENANT UN METAL |
| EP1521293 |
Appareil pour le dépôt du métal submicronique |
| WO2005019234 |
COMPLEXE DE METAUX DES TERRES RARES, MATERIAU DE FORMATION DE COUCHE MINCE ET PROCEDE DE PRODUCTION DE COUCHE MINCE |
| WO2005020317 |
FORMATION DE COUCHE DE RUTHENIUM POUR DEPOT DE FILM DE CUIVRE |
| WO2005017950 |
COMPOSE D'ORGANO–IRIDIUM, PROCEDE DE FABRICATION DUDIT COMPOSE ET PROCEDE DE FABRICATION DUDIT FILM |
| EP1506206 |
PROCEDE POUR LE DEPOT DE CUIVRE SUR UN SUPPORT. |
| WO2004106584 |
PROCEDE ET APPAREIL PERMETTANT DE GENERER UN PRECURSEUR POUR UN SYSTEME DE TRAITEMENT DE SEMI–CONDUCTEURS |
| WO2004094689 |
COMPLEXES DE CUIVRE (I) VOLATILS PERMETTANT LE DEPOT DE FILMS DE CUIVRE PAR DEPOT DE COUCHES ATOMIQUES |
| EP1466918 |
Nouveaux composés du bismuth. procédé pour leur préparation et procédé pour la préparation d'un film |
| EP1466353 |
SUPPRESSION DE LA CONTAMINATION DANS LE DEPOT FLUIDIQUE CHIMIQUE |
| EP1464724 |
Composés organométalliques utilisables dans des procédés de dépôt en phase vapeur |
| EP1464647 |
Procédé de préparation de composés des groupes IVA et VIA |
| EP1464725 |
Composés de germanium utilisables dans des procédés de dépôt en phase vapeur |
| FR2852971 |
PROCEDE POUR LE DEPOT PAR CVD D'UN FILM D'ARGENT SUR UN SUBSTRAT |
| WO2004079041 |
PROCEDE POUR APPLIQUER UN REVETEMENT SUR UN SUBSTRAT |
| WO2004076712 |
SOLUTION PRECURSEUR DE BISMUTH S'UTILISANT DANS UN PROCEDE DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, PROCEDE DE FABRICATION D'UN BISMUTH RENFERMANT UN FILM MINCE DE LADITE SOLUTION |
| EP1455408 |
Procédé pour la production d'un ensemble électrode–membrane (MEA) |
| WO2004065650 |
PRECURSEURS UTILISES DANS LE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR DE MATERIAUX A BASE DE TANTALE |
| WO2004055234 |
PROCEDE DE FORMATION DE FILM |
| WO2004050947 |
COMPOSE DE RUTHENIUM ET PROCEDE DE PRODUCTION DE FILMS DE RUTHENIUM METALLIQUE |
| EP1426463 |
Procédé pour le dépôt des couches atomiques des métaux |
