L'invention concerne un appareil et un procédé destinés à vaporiser un réactif source susceptible de générer ou de présenter des particules dans la vapeur correspondante de ce réactif source. Les caractéristiques structurales ou de traitement du système de génération de vapeur de l'invention permettent de supprimer la génération ou la présence de telles particules. L'appareil et le procédé de l'invention peuvent être appliqués à des réactifs sources liquides et solides, en particulier à des réactifs sources solides, notamment des halogénures métalliques, par exemple du chlorure de hafnium. Dans un mode de réalisation spécifique de l'invention, le réactif source est constitué d'une forme massive monolithique poreuse de la matière réactive source. L'appareil et le procédé de l'invention sont utiles pour fournir de la vapeur de réactif source dans des applications telles qu'un dépôt de couche atomique (ALD) et une implantation ionique.