COMPOSITIONS PERMETTANT D'ÉLIMINER DES RÉSIDUS DE GRAVURE
| N° de brevet: |
WO2008022560 (A1) |
| Date de publication: |
2008-02-28 |
| Inventeur(s): |
LIU BING [CN];PENG LIBBERT HONGXIU [CN];WANG SHUMIN [CN]; |
| Demandeur(s): |
ANJI MICROELECTRONICS SHANGHAI [CN];LIU BING [CN];PENG LIBBERT HONGXIU [CN];WANG SHUMIN [CN]; |
| Classification: |
G03F7/42;C11D7/28; |
| N° de demande: |
WO2007CN02476 20070817 |
| Numéro(s) de priorité: |
CN20061030170 20060817 |
La présente invention porte sur des compositions qui permettent d'éliminer des résidus de gravure et qui renferment une quantité de solvant efficace du point de vue du nettoyage, une solution aqueuse de tampon, du fluorure, un antigel et un inhibiteur polymère. Ces compositions peuvent être utilisées pour nettoyer des résidus de gravure au cours de la production de semiconducteurs et ne corrodent pas SiO SUB 2 /SUB , PETEOS, le silicium, les matériaux à faible constante diélectrique et certains métaux métalliques tels que Ti, Al et Cu.
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