Procédés et appareil pour la production à l'échelle industrielle de granulés de silicium polycristallin purifié ayant un ou plusieurs niveaux adaptés à la demande d'impuretés de type n et de type p à partir d'une source de silicium impur telle que, par exemple, du silicium de qualité métallurgique. Les systèmes et procédés de purification comprennent : (1) une ou plusieurs séries de réacteurs ou cuves à température contrôlée pourvus de lits fluidisés doubles dans lesquels les matières solides et les gaz sont transportés de façon à réaliser des degrés variables de purification et de dépôt de silicium solide par un contrôle strict de la température et du temps de séjour ; (2) la séparation et la récupération des composés d'impuretés de point de fusion élevé telles que, par exemple, FeSi et FeI SUB 2 /SUB ; (3) la purification, la séparation et le recyclage du tétraiodure de silicium ; (4) la séparation et la récupération de composés iodures d'impuretés liquides de plus faible point d'ébullition telles que, par exemple, AlI SUB 3 /SUB , dans une colonne de distillation fractionnée en continu, facilitées par un reflux d'iode ; (5) la séparation et la récupération des très fines particules solides comprenant des iodures d'impuretés et du silicium élémentaire dans un mélange liquide en aval d'une colonne de distillation fractionnée ; (6) la récupération de l'iode introduit à partir de l'oxydation des rejets d'impuretés de type iodures à la fois liquides et solides provenant du procédé.