L'invention a pour objectif d'augmenter la productivité en série d'un substrat avec un film de carbone en rendant possible de déposer de façon efficace un film de carbone sur la surface d'un substrat ou similaire. L'invention concerne un appareil de dépôt de film doté d'une électrode disposée dans une chambre sous vide, et l'opération consistant à déposer un film sur un substrat par l'introduction d'un gaz de dépôt de film dans la chambre sous vide et l'application d'une tension à l'électrode, permettant ainsi de générer un plasma du gaz de dépôt de film. L'appareil comporte l'électrode sus-mentionnée, qui est une électrode tubulaire munie d'un orifice d'alimentation et d'un orifice de décharge du substrat, et un dispositif d'alimentation/décharge de substrats pour introduire une pluralité de substrats dans l'électrode tubulaire par son orifice d'alimentation et les décharger par son orifice de décharge.