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COPOLYMÈRES DE RÉSISTANCE AUX TACHES
L'invention porte sur un procédé qui permet de conférer une résistance aux taches à un substrat, lequel procédé consiste à mettre le substrat en contact avec un copolymère de la formule 1, dans laquelle D est aryle oléfine, alpha oléfine ou diène, chaque M est indépendamment H, Ca, Mg SUB 1 /SUB Al, Na, ou K, chaque R SUB 1 /SUB est indépendamment H, C SUB 1 /SUB - C SUB 6 /SUB alkyle, ou C SUB 1 /SUB - C SUB 6 /SUB hydroxyalkyle, chaque R SUB 2 /SUB est indépendamment C SUB 1 /SUB - C SUB 12 /SUB alkyle, C SUB 1 /SUB - C SUB 6 /SUB hydroxyalkyle, C SUB 6 /SUB F SUB 5 /SUB , arylalkyle, C SUB 6 /SUB H SUB 4 /SUB OH, R SUB 3 /SUB COOH SUB 1 /SUB ou R SUB 3 /SUB SO SUB 3 /SUB H SUB 1 /SUB ou R SUB 1 /SUB et R SUB 2 /SUB sont liés entre eux pour former un cycle morpholino ou pyrrolidino, R SUB 3 /SUB est SUB/ C SUB 1 /SUB - C SUB 12 /SUB alkyle, CH(COOH)CH SUB 2 /SUB CH SUB 2 /SUB , C SUB 6 /SUB H SUB 4 /SUB , ou C SUB 6 /SUB H SUB 3 /SUB (OH), h SUB 1 /SUB + h SUB 2 /SUB est égal à h, h étant un entier positif, k, i et j sont chacun indépendamment égaux à zéro ou à un entier positif, à condition que le total de: 1) h oe(k + h + i + j) soit de 0,005 à 0,7; 2) de k oe(k + h + i + j) soit de 0,3 à 0,6; et 3) de [i + j] oe(k + h + i + j) soit de 0 à 0,6.
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