PROCÉDÉ POUR LA FORMATION D'UN FILM À REVÊTEMENT MULTICOUCHE

N° de brevet: WO2008015955 (A1)
Date de publication: 2008-02-07
Inventeur(s): KITAMURA NAOTAKA [JP];
Demandeur(s): NIPPON PAINT CO LTD [JP];KITAMURA NAOTAKA [JP];
Classification: B05D7/24;B05D1/36;B05D7/14;C25D13/00;C25D13/06;
N° de demande: WO2007JP64655 20070726 
Numéro(s) de priorité: JP20060211022 20060802 
La présente invention concerne un procédé pour la formation d'un film à revêtement multicouche doté d'un bon aspect fini qui permet de réduire le coût d'un équipement de revêtement et le coût énergétique. Le procédé pour la formation d'un film à revêtement multicouche comprend une étape de revêtement par dépôt électrolytique pour le dépôt électrolytique d'une composition de revêtement par dépôt électrolytique de cations pour former un film revêtu par dépôt électrolytique et le thermodurcissement du film à revêtement par dépôt électrolytique de manière à former un film à revêtement par dépôt électrolytique durci et une étape de formation de film à revêtement multicouche qui consiste à appliquer une composition de revêtement sur le film à revêtement par dépôt électrolytique durci pour former un film à revêtement multicouche. Dans la composition de revêtement par dépôt électrolytique de cations, la densité d'un pigment contenu dans les solides de la composition de revêtement par dépôt électrolytique va de 2 à 7 % en poids. Le pigment contient de 95 à 100 % en poids de dioxyde de titane. Le film de revêtement par dépôt électrolytique durci a une valeur d'indice de luminosité L de 55 ou plus et une épaisseur de film inférieure à 15 µm, et le film de revêtement par dépôt électrolytique durci a une gravité spécifique du film à revêtement séché qui va de 1,20 à 1,25.

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