Selon la présente invention, une tranche (W) est disposée sur un suscepteur (22) dans une chambre (21), et un film métallique est formé sur la surface d'une tranche (W) par alimentation continue de la chambre (21) en un gaz composé de métal depuis une unité d'alimentation en gaz composé de métal (51) et en un gaz composé organique réducteur depuis une unité d'alimentation en gaz composé organique réducteur (52) d'un mécanisme d'alimentation en gaz (50).