PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR DÉTERMINER DES VALEURS DE MESURE
| N° de brevet: |
WO2008015658 (A2) |
| Date de publication: |
2008-02-07 |
| Inventeur(s): |
MERKL CHRISTOPH [DE]; |
| Demandeur(s): |
MATTSON TECH INC [US];MERKL CHRISTOPH [DE]; |
| Classification: |
G05D23/27;G01J5/00;H01L21/00; |
| N° de demande: |
WO2007IB53077 20070803 |
| Numéro(s) de priorité: |
DE200610036585 20060804 |
La présente invention concerne un procédé et un appareil permettant de déterminer des valeurs de mesure se rapportant à au moins un paramètre d'un objet dans un système de chauffage rapide, et permettant de déterminer les valeurs de mesure à partir d'au moins une mesure mesurée dans le temps par un système de mesure, et de calculer des valeurs de prédiction pour les valeurs de mesure dans au moins un système modèle. Avec le procédé, une première valeur de mesure est calculée à partir d'une ou de plusieurs mesures enregistrées à un premier instant dans le temps, une première valeur de prédiction pour la valeur de mesure est calculée à un premier instant dans le temps ; une seconde valeur de mesure est calculée à partir d'une ou de plusieurs mesures enregistrées à un second instant dans le temps, une seconde valeur de prédiction est calculée pour la valeur de mesure au second instant dans le temps ; le développement dans le temps entre la première et la seconde valeur de mesure est comparé au développement dans le temps entre la première et la seconde valeur de prédiction ; une seconde valeur de mesure corrigée est déterminée si le développement dans le temps entre la première et la seconde valeur de mesure diffère du développement dans le temps entre la première et la seconde valeur de prédiction, et la seconde valeur de mesure corrigée est émise par le système de mesure. En particulier, la présente invention concerne des procédés in situ pour corriger des valeur de mesure de température ou de rayonnement d'objets dont la fonction de réponse s'écarte de façon soudaine et inattendue de la prédiction de fonction de réponse par le modèle pendant un cycle de traitement thermique. La présente invention est, par conséquent, destinée en particulier à des procédés visant la correction in situ de mesures de température ou de rayonnement d'objets placés dans des installations de chauffage rapide, de préférence des substrats, tels que, par exemple, des plaquettes semi-conductrices, dans lesquelles l'objet est chauffé par des sources de rayonnement, de préférence, des lampes à halogène, en particulier si le rayonnement de température est mesuré par un détecteur et comprend à la fois des parties de rayonnement du rayonnement de température du substrat et des parties de rayonnement direct et indirect des éléments actifs chauffant le substrat et des objets environnants.
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