L'invention concerne un procédé de dépôt de revêtements renforcés par dispersion de nanoparticules qui implique le traitement par procédé ES(electrospark processing) de la surface d'un substrat métallique avec une électrode composite. Le traitement ESest réalisée dans les conditions suivantes : 0,01 =" E" =" 10" J; 500 =" N" =" 5" 400 000; 0,0185 =" f"/N =" 0",1, où E est l'énergie d'une impulsion de décharge, f (Hz) est la fréquence de répétition des impulsions de décharge, et N est le nombre total d'impulsions lors de l'électroérosion. Le matériau substrat est un alliage de titane, un alliage de nickel ou de l'acier. La couche de substrat proche de la surface est dopée avec l'un au moins des chalcogénures suivants : MoS SUB 2 /SUB , WS SUB 2 /SUB , MoSe SUB 2 /SUB , WSe SUB 2 /SUB , dans des quantités allant jusqu'à 30 % en volume. Les particules de chalcogénure(s) remplissent toutes les discontinuités sur la surface du revêtement.