La présente invention concerne un procédé de fabrication de nanostructures comprenant les étapes suivantes :- une pré-structuration d'un substrat (1 ) adapté pour recevoir la nanostructure pour la formation d'au moins un nanorelief (2) sur le substrat, le ou chaque nanorelief présentant des flancs (4) s'étendant à partir d'un fond (1 a) du substrat et une face sommitale (3) s'étendant à partir desdits flancs, puis- un dépôt sur le substrat ainsi pré-structuré d'un revêtement monocouche ou multicouches destiné à former la nanostructure,et comprenant en outre :- l'adjonction au substrat pré-structuré ou au revêtement d'une couche de séparation apte à permettre, par action extérieure de type mécanique, thermomécanique ou vibratoire, une séparation du revêtement et du substrat, et- l'exercice de cette action sur le substrat et/ou le revêtement pour récupérer sélectivement une portion sommitale du revêtement par désolidarisation de ce dernier d'avec la face sommitale du ou de chaque nanorelief, de sorte que cette portion sommitale constitue tout ou partie de la nanostructure.