Est proposé un procédé pour enduire une base, qui montre au moins un canal interne (101,102), lors duquel l'enduction a lieu au moyen d'une séparation chimique de la phase vapeur, où la base (10) est disposée sur un dispositif HaHe (3) dans un secteur de réaction (21) d'un récipient de réacteur (2), où par une source (7) externe un gaz de processus est délivré, le gaz de processus est conduit à un générateur (4) interne dans le récipient de réaction (2), dans lequel la réactivité du gaz de processus est augmentée à l'aide d'un matériel modifiant la réactivité, et le gaz de processus est conduit du générateur (4) interne dans le secteur de réaction (21). Le gaz de processus est sucé du secteur de réaction (21) par le canal au moins interne (101,102) et par l'installation d'arrêt (3) à un échappement (5) du récipient de réacteur (2). En outre un dispositif approprié est proposé pour le procédé.