PROCEDE DE GRAVURE SECHE, PROCEDE POUR FORMER UNE STRUCTURE FINE, MOULE ET SON PROCEDE DE PRODUCTION- Brevets EP1884505 (A1)

PROCEDE DE GRAVURE SECHE, PROCEDE POUR FORMER UNE STRUCTURE FINE, MOULE ET SON PROCEDE DE PRODUCTION

N° de brevet:	EP1884505 (A1)
Date de publication:	2008-02-06
Inventeur(s):	NAKAGAWA HIDEO [JP];SASAGO MASARU [JP];MURAKAMI TOMOYASU [JP];
Demandeur(s):	MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD [JP];
Classification:	C03B11/00;C04B41/91;C23F4/00;G02B6/13;
N° de demande:	EP20060756470 20060523
Numéro(s) de priorité:	WO2006JP310214 20060523;JP20050151412 20050524;JP20050151413 20050524;JP20050151414 20050524;JP20060034852 20060213

A WC substrate 7 is etched by using plasma 50 generated from a gas including a chlorine atom.