L'invention concerne un procédé de nettoyage d'un tampon de polissage. En CMet ECMP, un tampon de polissage doit être conditionné pour obtenir des résultats de polissage prévisibles et de qualité. Le conditionnement génère des débris qui doivent être retirés pour éviter des défauts de traitement. L'invention concerne également un procédé efficace pour nettoyer un tampon de polissage. Dans un mode de réalisation, un fluide de lavage est dirigé sur le tampon pour nettoyer les débris pendant qu'un second fluide est utilisé pour éliminer le fluide de lavage. Dans un autre mode de réalisation, le fluide de lavage est fourni par un jet d'eau à haute pression tandis que le second fluide est fourni par une lame d'air.