L'invention concerne un dispositif et un procédé, le dispositif étant un dispositif de nettoyage par voie chimique sèche assisté par plasma d'un réacteur (10) comportant un dépôt indésirable sur ses parois et sur au moins une autre surface (12) polarisable, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens (13, 14) pour polariser positivement, par rapport aux parois du réacteur maintenues à un potentiel référencé, la ou chaque surface polarisable.