L'invention concerne une nouvelle structure de filtre à gaz, un procédé de filtration, et un procédé de fabrication de la structure de filtre. La structure selon l'invention comprend une couche plane poreuse de matériau d'isolation (12) comportant deux surfaces opposées. Selon l'invention, les deux surfaces de la couche de matériau d'isolation (12) comprennent une couche conductrice poreuse (14, 16) comprenant une matrice de filtration poreuse traitée avec un matériau conducteur. Le matériau conducteur est différent de celui de la matrice de support. Grâce aux couches conductrices, il est possible de créer dans le matériau d'isolation un champ électrique qui améliore considérablement l'efficacité de filtration du matériau d'isolation, en particulier la filtration de petites particules.