COUCHE DE NITRURE DE GROUPE III–V ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION

N° de brevet: WO2007119433 (A1)
Date de publication: 2007-10-25
Inventeur(s): FUJIOKA HIROSHI [JP];KOBAYASHI ATSUSHI [JP];HORIE HIDEYOSHI [JP];AMANAI HIDETAKA [JP];NAGAO SATORU [JP];
Demandeur(s): KANAGAWA KAGAKU GIJUTSU AKAD [JP];UNIV TOKYO [JP];MITSUBISHI CHEM CORP [JP];FUJIOKA HIROSHI [JP];KOBAYASHI ATSUSHI [JP];HORIE HIDEYOSHI [JP];AMANAI HIDETAKA [JP];NAGAO SATORU [JP];
Classification: C30B29/38;C30B23/08;H01L21/205;
N° de demande: WO2007JP55577 20070319 
Numéro(s) de priorité: JP20060076733 20060320;JP20060231274 20060828;JP20060334612 20061212 
Une couche de nitrure de groupe III-V de système hexagonal dotée d'une cristallinité de très grande qualité capable d'améliorer les caractéristiques d'un dispositif semi-conducteur tel qu'un élément électroluminescent. La couche de nitrure de groupe III-V appartenant au système hexagonal formé sur un substrat présentant une constante de réseau différente présente une orientation de face de croissance {1-100}, où la largeur entière à la moitié du maximum b SUB 1 /SUB de la dépendance angulaire de la puissance de diffraction des rayons X sur une {1-210} face perpendiculaire à l'orientation de face de croissance sur l'angle d'incidence du rayon X depuis une direction parallèle à la face de croissance satisfait à une relation 0,01°="b" SUB 1 /SUB ="0",5°, ou bien la largeur entière à la moitié du maximum b SUB 2 /SUB de la dépendance angulaire de la puissance de difraction des rayons X sur une {0001} face de même incidence que le rayon X depuis une direction parallèle à la face de croissance satisfait à une relation 0,01°="b" SUB 2 /SUB ="0",5°.

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