PROCEDE DE FABRICATION D'UN MONOCRISTAL DE CARBURE DE SILICIUM
| N° de brevet: |
WO2007116315 (A1) |
| Date de publication: |
2007-10-18 |
| Inventeur(s): |
SAKAMOTO HIDEMITSU [JP];TERASHIMA YUKIO [JP]; |
| Demandeur(s): |
TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISY [JP];SAKAMOTO HIDEMITSU [JP];TERASHIMA YUKIO [JP]; |
| Classification: |
C30B29/36;C30B17/00; |
| N° de demande: |
WO2007IB01003 20070405 |
| Numéro(s) de priorité: |
JP20060106145 20060407 |
Selon la présente invention, un matériau brut de silicium est versé dans un creuset en graphite (10), le creuset en graphite (10) est chauffé pour former un bain de silicium à l'état fondu (M), au moins un élément des terres rares et au moins un élément parmi Sn, Al et Ge sont ajoutés dans le bain de silicium à l'état fondu (M), et un gradient de température est maintenu dans le bain de silicium à l'état fondu selon lequel la température diminue de l'intérieur du bain de silicium à l'état fondu vers la surface de ce bain de silicium à l'état fondu (S), tout en développant un monocristal de carbure de silicium à partir d'un grain de cristal de carbure de silicium (14) maintenu immédiatement au-dessous de la surface du liquide fondu.
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