PROCEDE DE FABRICATION D'UN MONOCRISTAL DE CARBURE DE SILICIUM

N° de brevet: WO2007116315 (A1)
Date de publication: 2007-10-18
Inventeur(s): SAKAMOTO HIDEMITSU [JP];TERASHIMA YUKIO [JP];
Demandeur(s): TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISY [JP];SAKAMOTO HIDEMITSU [JP];TERASHIMA YUKIO [JP];
Classification: C30B29/36;C30B17/00;
N° de demande: WO2007IB01003 20070405 
Numéro(s) de priorité: JP20060106145 20060407 
Selon la présente invention, un matériau brut de silicium est versé dans un creuset en graphite (10), le creuset en graphite (10) est chauffé pour former un bain de silicium à l'état fondu (M), au moins un élément des terres rares et au moins un élément parmi Sn, Al et Ge sont ajoutés dans le bain de silicium à l'état fondu (M), et un gradient de température est maintenu dans le bain de silicium à l'état fondu selon lequel la température diminue de l'intérieur du bain de silicium à l'état fondu vers la surface de ce bain de silicium à l'état fondu (S), tout en développant un monocristal de carbure de silicium à partir d'un grain de cristal de carbure de silicium (14) maintenu immédiatement au-dessous de la surface du liquide fondu.

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