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Nanostructures semiconducteurs et leur fabrication
Pendant la croissance de nanofils semiconducteurs (94, 106, 152) sur un substrat (12), ont lieu différentes réactions vapeur-liquide-solide respectives, qui forment respectivement des segments cibles (98, 116, 124) et des segments sacrificiels (96, 108, 132) des nanofils semiconducteurs (94, 106, 152) en des emplacements de croissance définis par des particules de catalyseur. Les segments sacrificiels (96, 108, 132) des nanofils semiconducteurs (94, 106, 152) sont éliminés sélectivement pour former des nanostructures semiconductrices (104, 151, 172) qui correspondent aux segments cibles (98, 116, 124) des nanofils semiconducteurs (94, 106, 152)
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