L'invention concerne des fils nanométriques et leur procédé de fabrication. Le procédé comprend la réalisation de micro-rainures avec un certain nombre de micro-cavités, les micro-rainures formant une configuration régulière à la surface d'un substrat de silicium, la réalisation d'une couche métallique sur le substrat de silicium en déposant un matériau qui sert de catalyseur pour former les fils nanométriques sur le substrat de silicium, l'agglomération de la couche métallique dans les micro-rainures à la surface du substrat de silicium par chauffage de la couche métallique afin de former les catalyseurs et la croissance de fils nanométriques entre les catalyseurs et le substrat de silicium en utilisant un traitement thermique.