PROCÉDÉ D'ALIMENTATION D'UN FOUR À INDUCTION OU D'UN INDUCTEUR

N° de brevet: EP1590990 (A1)
Date de publication: 2005-11-02
Inventeur(s): IBACH ROBERT [DE];FABIANOWSKI JAN [DE];DZIENIAKOWSKI MACIEJ A [PL];
Demandeur(s): ABB PATENT GMBH [DE];
Classification: H05B6/04;H05B6/06;
N° de demande: EP20030815695 20031223 
Numéro(s) de priorité: WO2003EP14764 20031223;DE20031004505 20030205 
Une ébauche de masque et un photomasque destiné à l'exposition à la lumière possédant une longueur d'onde de 300nm ou inférieure est décrit comme possédant une longévité chimique accrue en particulier par rapport aux procédures de lavage alcalines. En particulier, l'ébauche de masque et le photomasque comporte une extra fine couche de protection additionnelle fournie sur la couche contenant du silicone et/ou de l'aluminium.

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