Une ébauche de masque et un photomasque destiné à l'exposition à la lumière possédant une longueur d'onde de 300nm ou inférieure est décrit comme possédant une longévité chimique accrue en particulier par rapport aux procédures de lavage alcalines. En particulier, l'ébauche de masque et le photomasque comporte une extra fine couche de protection additionnelle fournie sur la couche contenant du silicone et/ou de l'aluminium.