NANOCRISTAUX A NOYAU/ENVELOPPE MONODISPERSES ET AUTRES NANOCRISTAUX STRUCTURES COMPLEXES ET LEURS PROCEDES DE PREPARATION

N° de brevet: EP1590171 (A2)
Date de publication: 2005-11-02
Inventeur(s): PENG XIAOGANG [US];LI JIANQUING [US];BATTAGLIA DAVID [US];WANG YONGQIANG ANDREW [US];WANG YUNJUN [US];
Demandeur(s): TRUSTEES OF THE UNIVERSITY OF [US];
Classification: B82B3/00;H01L33/00;C30B7/08;B32B5/16;B05D7/00;C30B5/00;C09K11/08;
N° de demande: EP20040704473 20040122 
Numéro(s) de priorité: WO2004US01895 20040122;US20030442146P 20030122 
Une ébauche de masque et un photomasque destiné à l'exposition à la lumière possédant une longueur d'onde de 300nm ou inférieure est décrit comme possédant une longévité chimique accrue en particulier par rapport aux procédures de lavage alcalines. En particulier, l'ébauche de masque et le photomasque comporte une extra fine couche de protection additionnelle fournie sur la couche contenant du silicone et/ou de l'aluminium.

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