L'invention consiste à fournir un masque qui peut faire face à l'augmentation de taille d'une région sur laquelle un film doit être formé et mis en forme avec une précision élevée, un procédé pour sa fabrication, un procédé pour former un motif en couche mince, un procédé de fabrication d'un dispositif électro-optique, et d'un équipement électronique. L'invention concerne aussi un substrat support 10, et une pluralité de puces 20 fixées au substrat support 10. La puce 20 comprend une ouverture correspondant au moins à une partie formée selon un motif en couche mince formé sur une surface donnée. La zone occupée par la puce 20 est plus petite qu'une zone du motif en couche mince utilisant la pluralité de puces 20.