Pour la fabrication d'un cristal photonique auto-assemblé (60, 70 ou 80), on utilise un gabarit obtenu par nano-impression lithographique. Une couche de matériau gravable est déposée (S20) sur un substrat. Un motif est gravé (S30) dans le matériau gravable et produit un gabarit (110) (gabarit dont le motif est conçu pour contraindre sensiblement les particules coloïdales à s'agencer selon un réseau cristallographique prédéterminé) et des particules colloïdales (30) introduites (S40) sur le gabarit viennent remplir sensiblement le réseau prédéterminé.