L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif à nanoparticules qui consiste à former un film cristallin mince sous-jacent (2) sur un substrat (1) par tirage non épitaxial, et à effectuer un tirage épitaxial d'un matériau à nanoparticules cristallines (4) présentant des constantes de grille conformées à celles du film cristallin mince sous-jacent (2) localement sur des cristaux minces du film sous-jacent, grâce à l'utilisation des surfaces des particules fines isolées (2) en tant qu'espaceurs fins, de manière à former des nanoparticules, et dispositif à nanoparticules fabriqué par ce procédé. Le dispositif à nanoparticules peut présenter une densité améliorée des réseaux.