LITHOGRAPHIE A COMMANDE ELECTROSTATIQUE

N° de brevet: EP1509816 (A2)
Date de publication: 2005-03-02
Inventeur(s): LIM JUNG-HYURK [US];MIRKIN CHAD A [US];
Demandeur(s): UNIV NORTHWESTERN [US];
Classification: B82B3/00;G01N13/10;G03B27/42;H01J37/28;H01L21/027;
N° de demande: EP20030796269 20030521 
Numéro(s) de priorité: WO2003US15833 20030521;US20020382596P 20020521 
L'invention concerne un ensemble source de rayons X. Ledit ensemble comprend une anode présentant un point que des électrons viennent heurter en fonction du niveau de puissance fournie à l'ensemble, ainsi qu'une optique couplée afin de recevoir des rayons X divergents générés au niveau du point et de transmettre les rayons X de sortie provenant de l'ensemble. Un système de commande permet de maintenir l'intensité des rayons X de sortie, de manière dynamique, au cours du fonctionnement de l'ensemble source de rayons X, indépendamment d'un changement d'au moins une condition de fonctionnement de l'ensemble source de rayons X, par changement du niveau de puissance fournie à l'ensemble. Le système de commande peut comprendre au moins un organe de commande permettant d'effectuer le changement de niveau de puissance fournie à l'ensemble, par exemple, par commande d'un bloc d'alimentation associé à l'ensemble. Le système de commande permet également de changer la température et/ou la position de l'anode pour maintenir l'intensité de sortie.

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