Dans la cuve à réaction pour plasma (1) de l'invention, deux ou plusieurs structures stratifiées (6) comprennent des corps formés de céramique (3, 4) dans lesquels sont formées une électrode de génération de plasma (2) permettant de produire du plasma et se présentant sous la forme de deux bandes ainsi qu'une électrode électroconductrice de type film à continuité électrique (5) retenue entre les deux corps formés de céramique (3, 4), ces électrodes définissant un espace de génération de plasma (7) contenant des plans stratifiés. Les électrodes adjacentes des électrodes électroconductrices (5) permettent de produire une décharge électrique intermédiaire, d'où la génération d'un plasma dans l'espace de génération de plasma (7), et de générer un plasma stabilisé uniforme avec une faible puissance électrique, la résistance au passage d'un gaz pouvant être réduite.