L'invention concerne un objectif, notamment un objectif de projection, destiné à un système d'éclairage de projection de microlithographie, comportant au moins une lentille de cristal de fluorure. Il est possible de réduire l'effet parasite de la réfraction double lorsque la lentille se présente sous la forme d'une lentille (100) dont l'axe de lentille est approximativement normal aux plans de cristal (100) ou aux plans de cristal équivalents du cristal de fluorure. Dans le cas d'objectifs comportant au moins deux lentilles de cristal de fluorure, il est avantageux que les deux lentilles de cristal de fluorure présentent une torsion l'une par rapport à l'autre. Les axes de lentille des lentilles de cristal de fluorure peuvent présenter une orientation de cristal (111) ou (110) en plus de l'orientation de cristal (100). L'effet parasite de la réfraction double peut être réduit davantage par utilisation simultanée de groupes de lentilles (100) présentant une torsion les unes par rapport aux autres, et de groupes de lentilles (111) ou (110) présentant une torsion les unes par rapport aux autres, et par application d'un revêtement de compensation sur un élément optique.