Composition pour réserve et procédé de formation de motifs

N° de brevet: EP1204001 (A1)
Date de publication: 2002-05-08
Inventeur(s): TAKEDA TAKANOBU [JP];HATAKEYAMA JUN [JP];WATANABE OSAMU [JP];KUBOTA HIROSHI [JP];
Demandeur(s): SHINETSU CHEMICAL CO [JP];
Classification: C08F232/08;C08K5/13;C08K5/36;G03F7/004;G03F7/039;
N° de demande: EP20010309168 20011030 
Numéro(s) de priorité: JP20000334340 20001101 
Un polymère comporte des unités récurrentes de formule (1) et des unités récurrentes ayant des groupes labiles acides, lesquelles unités augmentent la solubilité alcaline, avec pour résultat des groupes labiles acides décomposés sous l'action d'acide, et a un Mw de 1000-500000. R1 et R2 sont chacun des groupes hydrogène, hydroxyle, hydroxyalkyle, alkyle, alcoxy ou halogène, et n est 0, 1, 2, 3 ou 4. Le polymère est utile comme résine de base pour former une composition de vernis positive chimiquement amplifié, qui a des avantages comprenant un contraste remarquablement accru de taux de dissolution d'alcali avant et après exposition, une sensibilité élevée, une haute résolution, et une haute résistance à la corrosion et se prête au mieux comme matière de microimpression pour une utilisation dans la fabrication de VLSI.

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