Un four à diffusion à basse pression pour le dopage de plaquettes de matériau semi-conducteur utilisant une source de dopant liquide, comprend un tube chauffé dans lequel sont disposées les plaquettes, avec une arrivée de flux gazeux de dopage et une canne d'aspiration reliée à une pompe 7. Des moyens de régulation de la pression sont prévus pour asservir la pression dans le tube à une consigne en pression Kp1 au moyen d'une vanne de restriction placée en entrée de la pompe.