Une source de faisceau atomique rapide (FAB) est capable de générer des faisceaux atomiques rapides ayant des caractéristiques de densité élevée de faisceau, de direction précise, et de large gamme de niveaux d'énergie de sortie commandée. La source FAB est composée d'un tube de décharge, d'un générateur de plasma à couplage inductif pour générer un gaz de plasma dans un tube de décharge à partir du gaz qui y est introduit, d'électrodes positives et négatives pour l'accélération des ions pour commander le faisceau pour une variété de niveaux d'énergie. L'électrode négative a une ouverture de commande de faisceau pour générer un FAB dans lequel la direction, le facteur de neutralisation et les autres caractéristiques FAB sont commandées.