Procédé de gravure sèche

N° de brevet: EP0746014 (A2)
Date de publication: 1996-12-04
Inventeur(s): KANEKO TADAAKI [JP];KAWAMURA TAKAAKI [JP];
Demandeur(s): JAPAN RES DEV CORP [JP];
Classification: C23F1/12;C23F4/00;H01L21/302;H01L21/306;H01L21/3065;
N° de demande: EP19960303886 19960530 
Numéro(s) de priorité: JP19950131920 19950530 
L'invention concerne un procédé pour attaquer à sec une surface d'un solide avec un composé halogéné gazeux de bismuth, ce qui permet d'effectuer un traitement à sec simple et parfait en vue de la fabrication de dispositifs électroniques, quantiques, etc... avec une reproductibilité élevée.

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