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Procédé pour la préparation d'une plaquette de semi–conducteur avec film épitaxial
L'invention concerne un dispositif pour l'enduction électrophorétique de substrats. Le dispositif présente deux électrodes principales pour la production d'un champ électrique homogène. Des moyens de disposition sont prévus pour placer un substrat à l'intérieur du domaine homogène du champs électrique. De tels substrats non conducteurs doivent être électriques, sinon apparaissent des problèmes lors de l'établissement d'un dispositif de l'art antérieur. La force du champ de séparation doit être fondamentalement augmentée en comparaison à l'addition de substrats conducteurs électriques. Il s'est manifesté des couches d'enduction inhomogènes qui se forment lors de l'état de la technique. Pour éviter ce problème, le dispositif selon l'invention présente un moyen pour l'homogénisation du champ électrique. Il peut se traiter par d'autres électrodes auxiliaires qui s'opposent à la déformation du champ électrique par suite du manque de substrat. On évite ainsi les problèmes d'enduction comme dans l'état de la technique.
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