Composition photorésistante non corrosive contenant: a) 20 à 70% en poids d'un solvant organique polaire ayant un moment dipolaire de plus de 3,5; b) 70 à 20% en poids de composés d'amine sélectionnés; c) une quantité efficace d'un réactif de chelation comprenant un acide mono- ou polyvalent du type ligand fixé par covalence à un squelette oligomère ou polymère; et d) éventuellement 0 à 10% en poids d'amino-acide sélectionné ayant un groupe hydroxyle.